[实用新型]一种纳米压印光刻机

权利要求书

1.一种纳米压印光刻机，包括底座(2)、压板(4)和支架(1)，其特征在于，所述支架(1)的底端与底座(2)的上表面固定，所述底座(2)的上表面固定有安装座(9)，所述安装座(9)的顶部固定设置有基板承载台(10)，所述基板承载台(10)的内部设置有三个电动升降顶针(8)，所述安装座(9)的一侧设置有位置传感器(6)，所述位置传感器(6)的下表面固定有第一支撑杆(7)，所述第一支撑杆(7)的底端与底座(2)的上表面固定，所述安装座(9)的另一侧设置有套筒(15)，所述套筒(15)的底面固定有两个第二支撑杆(14)，两个所述第二支撑杆(14)的底端均与底座(2)的上表面固定，所述套筒(15)的内部设置有伸缩杆(13)，所述套筒(15)的一侧开设有条孔(16)，所述条孔(16)的内部设置有第一拉杆(30)，所述第一拉杆(30)的一端与伸缩杆(13)的一侧固定，所述第一拉杆(30)的另一端固定套接有防滑套(24)，所述伸缩杆(13)的一端固定有连接块(12)，所述连接块(12)的一侧固定有基板承载支架(11)；

所述支架(1)的下表面固定有两个连接板(17)，两个所述连接板(17)与支架(1)的下表面之间均固定设置有角钢(3)，两个所述连接板(17)的底端均与压板(4)的上表面固定，所述压板(4)的下表面设置有软模具(18)，所述软模具(18)的下表面设置有夹具(5)，所述支架(1)的下表面设置有紫外线灯(35)，所述紫外线灯(35)位于压板(4)的正上方。

2.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，三个所述电动升降顶针(8)的底面均与基板承载台(10)的内底壁固定，三个所述电动升降顶针(8)的顶端均通过基板承载台(10)上表面所开设的通孔延伸到外部，三个所述电动升降顶针(8)以基板承载台(10)的中心为圆心呈圆周阵列分布。

3.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，所述基板承载台(10)的上表面开设有真空吸附槽(21)，所述真空吸附槽(21)的形状为圆形，所述安装座(9)的内部固定安装有真空泵(20)，所述真空泵(20)的输出端与真空吸附槽(21)接通连接。

4.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，所述套筒(15)的内部设置有第一弹簧(31)，所述第一弹簧(31)的一端与伸缩杆(13)的一端固定，所述第一弹簧(31)的另一端与套筒(15)的内侧壁固定。

5.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，所述伸缩杆(13)的上表面均匀开设有若干个卡槽(19)，所述套筒(15)的上表面固定设置有连接件(22)，所述连接件(22)上通过销轴铰接有与卡槽(19)相适配的卡板(23)，所述卡板(23)的形状为L形。

6.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，所述紫外线灯(35)的两侧均固定有移动杆(36)，两个所述移动杆(36)远离紫外线灯(35)的一端均固定有空心块(38)，两个所述空心块(38)的顶端均设置有螺纹块(39)，两个所述螺纹块(39)的内部均螺纹连接有螺纹杆(32)，两个所述螺纹杆(32)的顶端均与支架(1)的下表面固定，两个所述螺纹杆(32)的底端均固定有限位块(37)，所述紫外线灯(35)的顶端连接有导线(34)，所述支架(1)的下表面设置有线槽(33)，所述导线(34)的一端通过线槽(33)延伸到支架(1)的内部。

7.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，两个所述连接板(17)上均活动插接有第二拉杆(27)，两个所述第二拉杆(27)外侧的一端均固定有拉块(26)，两个所述第二拉杆(27)内侧的一端均固定有卡接件(29)，两个所述卡接件(29)的一侧与其对应的连接板(17)之间均固定设置有第二弹簧(25)，两个所述卡接件(29)之间卡接有遮光板(28)。