[实用新型]一种纳米压印光刻机

说明书

本实用新型涉及光刻机技术领域，且公开了一种纳米压印光刻机，包括底座、压板和支架，所述支架的底端与底座的上表面固定，所述底座的上表面固定有安装座，所述安装座的顶部固定设置有基板承载台，所述基板承载台的内部设置有三个电动升降顶针，所述安装座的一侧设置有位置传感器，所述位置传感器的下表面固定有第一支撑杆，所述第一支撑杆的底端与底座的上表面固定。该纳米压印光刻机，在使用过程中，通过第二弹簧推动卡接件，对遮光板进行固定，然后进行纳米压印，该过程在不更换软模具的情况下，仅需更换基板，实现了循环操作，而且可以避免发生溢胶现象，从而防止基板粘在托盘上难以分离，有利于提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，具体为一种纳米压印光刻机。

背景技术

纳米压印光刻(Nano-ImprintLithography)是一种全新的纳米图形复制方法。它采用高分辨率电子束光刻等方法将结构复杂的纳米结构图案制在模具上，然后用预先图案化的模具使聚合物材料变形从而在聚合物上形成结构图案。其特点是具有超高分辨率，高产量，低成本。高分辨率是因为它没有光学曝光中的衍射现象和电子束曝光中的散射现象。高产量是因为它可以像光学曝光那样并行处理，同时制作成百上千个器件。低成本是因为它不像光学曝光机那样需要复杂的光学系统或电子束曝光机那样需要复杂的电磁聚焦系统。因此纳米压印可望成为一种工业化生产技术，并已被纳入2003版的国际半导体蓝图(ITRS)，与极紫外光刻，X射线光刻，电子束光刻，离子束光刻一起成为下一代光刻技术的强有力竞争者；纳米压印技术已经展示了广阔的应用领域。如用于制作量子磁碟，数据存储器，DNA电泳芯片，GaAs光检测器,波导起偏器，硅场效应管，高密度磁结构.GaAs量子器件，纳米电机系统和微波集成电路等。

目前市场上的一些纳米压印装置：

(1)不便于对基板进行定位，降低了压印的准确性，导致增加了生产成本；

(2)在使用过程中发生溢胶现象时，真空泵会将溢出的胶体吸入吸附槽中，胶体在吸附槽中流动固化，会造成基板粘在承载台上难以分离，不利于提高生产效率。

所以我们提出了一种纳米压印光刻机，以便于解决上述中提出的问题。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对上述背景技术中现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种纳米压印光刻机，以解决上述背景技术中提出的目前市场上的一些纳米压印光刻机，存在不便于对基板进行定位，降低了压印的准确性，导致增加了生产成本和在使用过程中发生溢胶现象时，真空泵会将溢出的胶体吸入吸附槽中，胶体在吸附槽中流动固化，会造成基板粘在承载台上难以分离，不利于提高生产效率的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种纳米压印光刻机，包括底座、压板和支架，所述支架的底端与底座的上表面固定，所述底座的上表面固定有安装座，所述安装座的顶部固定设置有基板承载台，所述基板承载台的内部设置有三个电动升降顶针，所述安装座的一侧设置有位置传感器，所述位置传感器的下表面固定有第一支撑杆，所述第一支撑杆的底端与底座的上表面固定，所述安装座的另一侧设置有套筒，所述套筒的底面固定有两个第二支撑杆，两个所述第二支撑杆的底端均与底座的上表面固定，所述套筒的内部设置有伸缩杆，所述套筒的一侧开设有条孔，所述条孔的内部设置有第一拉杆，所述第一拉杆的一端与伸缩杆的一侧固定，所述第一拉杆的另一端固定套接有防滑套，所述伸缩杆的一端固定有连接块，所述连接块的一侧固定有基板承载支架；

所述支架的下表面固定有两个连接板，两个所述连接板与支架的下表面之间均固定设置有角钢，两个所述连接板的底端均与压板的上表面固定，所述压板的下表面设置有软模具，所述软模具的下表面设置有夹具，所述支架的下表面设置有紫外线灯，所述紫外线灯位于压板的正上方。