[实用新型]转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备有效
申请号: | 202120088971.1 | 申请日: | 2021-01-13 |
公开(公告)号: | CN214324521U | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 林刘恭 | 申请(专利权)人: | 光群雷射科技股份有限公司 |
主分类号: | B41C1/02 | 分类号: | B41C1/02 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李佳佳 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滚轮 成形 系统 离子 蚀刻 设备 | ||
1.一种转印滚轮成形系统,其特征在于,所述转印滚轮成形系统包括:一离子蚀刻设备,包含:
一基座;
一混合气体供应模块,安装至所述基座;及
一干式蚀刻腔室,设置于所述基座,并且所述干式蚀刻腔室包含有一转动式载台及围绕所述转动式载台外侧的一蚀刻驱动模块;其中,所述转动式载台与所述蚀刻驱动模块之间相隔有一激发区域,而所述混合气体供应模块与所述激发区域连通;以及
一金属转印滚轮,能拆卸地安装于所述转动式载台上并位于所述激发区域内,而所述蚀刻驱动模块与所述金属转印滚轮间隔开并面向所述金属转印滚轮的外侧面;其中,所述金属转印滚轮能通过所述转动式载台而相对于所述蚀刻驱动模块转动,并且由所述混合气体供应模块提供至所述激发区域的混合气体能在所述蚀刻驱动模块与所述金属转印滚轮之间激发。
2.根据权利要求1所述的转印滚轮成形系统,其特征在于,所述转动式载台包含有一转盘及固定在所述转盘上的一支撑件,并且所述金属转印滚轮能拆卸地套设在所述支撑件上。
3.根据权利要求2所述的转印滚轮成形系统,其特征在于,所述支撑件呈中空状,所述离子蚀刻设备包含有安装于所述基座的一冷却装置,并且所述冷却装置与所述支撑件的内部连通,以使所述冷却装置能用来将一冷却介质输送至所述支撑件的所述内部。
4.根据权利要求1所述的转印滚轮成形系统,其特征在于,所述干式蚀刻腔室包含有安装于所述基座的一外壳,并且所述转动式载台及所述蚀刻驱动模块位于所述外壳之内,所述混合气体供应模块包含有多个储气瓶及连接至多个所述储气瓶的一管路单元,并且所述管路单元连接至所述外壳,以用于将来自多个所述储气瓶的所述混合气体传输至位于所述外壳之内的所述激发区域。
5.根据权利要求4所述的转印滚轮成形系统,其特征在于,所述外壳包含有安装至所述基座的一罩体及能转动地盖合于所述罩体的一盖体,并且所述蚀刻驱动模块安装于所述罩体的内侧,所述管路单元连接至所述盖体。
6.根据权利要求4所述的转印滚轮成形系统,其特征在于,多个所述储气瓶内所储存的气体的种类包含有至少两种。
7.根据权利要求1所述的转印滚轮成形系统,其特征在于,所述离子蚀刻设备包含有安装于所述基座的一抽气机构,并且所述抽气机构与所述激发区域连通,以用来对所述激发区域进行抽气。
8.一种离子蚀刻设备,其特征在于,所述离子蚀刻设备用来使一金属转印滚轮的外侧面形成一转印微结构层,所述离子蚀刻设备包括:一基座;
一混合气体供应模块,安装至所述基座;以及
一干式蚀刻腔室,设置于所述基座,并且所述干式蚀刻腔室包含有一转动式载台及围绕所述转动式载台外侧的一蚀刻驱动模块;其中,所述转动式载台与所述蚀刻驱动模块之间相隔有一激发区域,而所述混合气体供应模块与所述激发区域连通。
9.根据权利要求8所述的离子蚀刻设备,其特征在于,所述转动式载台包含有一转盘及固定于所述转盘上的一支撑件,所述支撑件呈中空状,所述离子蚀刻设备包含有安装于所述基座的一冷却装置,并且所述冷却装置与所述支撑件的内部连通,以使所述冷却装置能用来将一冷却介质输送至所述支撑件的所述内部。
10.根据权利要求8所述的离子蚀刻设备,其特征在于,所述干式蚀刻腔室包含有安装于所述基座的一外壳,并且所述转动式载台及所述蚀刻驱动模块位于所述外壳之内,所述混合气体供应模块包含有多个储气瓶及连接至多个所述储气瓶的一管路单元,并且所述管路单元连接至所述外壳,以用于将来自多个所述储气瓶的所述混合气体传输至位于所述外壳之内的所述激发区域。
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