[实用新型]转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备

说明书

本实用新型公开了转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备。该转印滚轮成形系统包括：离子蚀刻设备，包含：基座；混合气体供应模块，安装至基座；及干式蚀刻腔室，设置于基座，并且干式蚀刻腔室包含转动式载台及围绕转动式载台外侧的蚀刻驱动模块；其中，转动式载台与蚀刻驱动模块之间相隔有激发区域，混合气体供应模块与激发区域连通；转印滚轮成形系统还包括金属转印滚轮，其能拆卸地安装在转动式载台上并位于激发区域内，蚀刻驱动模块与金属转印滚轮间隔开并面向金属转印滚轮的外侧面。由此，离子蚀刻设备可以用来直接在所述金属转印滚轮的外侧面上凹设形成转印微结构层，进而有效地降低成本且提高合格率。

技术领域

本实用新型涉及一种蚀刻设备，尤其涉及一种转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备。

背景技术

现有的转印滚轮成形系统用来在一金属滚轮的外表面通过一连串复杂的流程与技术而堆叠形成有一微结构层，进而通过上述微结构层来在一光学膜上形成有一全像影像层。然而，因为现有转印滚轮成形系统的架构过于复杂，所以导致成本过大但合格率却不高的情况。

于是，本实用新型的发明人认为上述缺陷可改善，并且潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本实用新型。

实用新型内容

本实用新型实施例在于提供一种转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备，其能有效地改善现有转印滚轮成形系统。

本实用新型实施例公开一种转印滚轮成形系统，其包括：一离子蚀刻设备，包含：一基座；一混合气体供应模块，安装至基座；及一干式蚀刻腔室，设置于基座，并且干式蚀刻腔室包含有一转动式载台及围绕转动式载台外侧的一蚀刻驱动模块；其中，转动式载台与蚀刻驱动模块之间相隔有一激发区域，而混合气体供应模块与激发区域连通；该转印滚轮成形系统还包括一金属转印滚轮，能拆卸地安装在转动式载台上并位于激发区域内，而蚀刻驱动模块与金属转印滚轮间隔开并面向金属转印滚轮的外侧面；其中，金属转印滚轮能通过转动式载台而相对于蚀刻驱动模块转动，并且由混合气体供应模块提供至激发区域的混合气体能在蚀刻驱动模块与金属转印滚轮之间激发。

优选地，转动式载台包含有一转盘及固定在转盘上的一支撑件，并且金属转印滚轮能拆卸地套设在支撑件上。

优选地，支撑件呈中空状，离子蚀刻设备包含有安装于基座的一冷却装置，并且冷却装置与支撑件的内部连通，以使冷却装置能用来将一冷却介质输送至支撑件的内部。

优选地，干式蚀刻腔室包含有安装于基座的一外壳，并且转动式载台及蚀刻驱动模块位于外壳之内，混合气体供应模块包含有多个储气瓶及连接至多个储气瓶的一管路单元，并且管路单元连接至外壳，以用于将来自多个储气瓶的混合气体传输至位于外壳之内的激发区域。

优选地，外壳包含有安装至基座的一罩体及能转动地盖合于罩体的一盖体，并且蚀刻驱动模块安装于罩体的内侧，管路单元连接至盖体。

优选地，多个储气瓶内所储存的气体的种类包含有至少两种。

优选地，离子蚀刻设备包含有安装于基座的一抽气机构，并且抽气机构与激发区域连通，以用来对激发区域进行抽气。

本实用新型实施例还公开一种离子蚀刻设备，该离子蚀刻设备用来使一金属转印滚轮的外侧面形成一转印微结构层，该离子蚀刻设备包括：一基座；一混合气体供应模块，安装至基座；以及一干式蚀刻腔室，设置于基座，并且干式蚀刻腔室包含有一转动式载台及围绕转动式载台外侧的一蚀刻驱动模块；其中，转动式载台与蚀刻驱动模块之间相隔有一激发区域，而混合气体供应模块与激发区域连通。

优选地，转动式载台包含有一转盘及固定于转盘上的一支撑件，支撑件呈中空状，离子蚀刻设备包含有安装于基座的一冷却装置，并且冷却装置与支撑件的内部连通，以使冷却装置能用来将一冷却介质输送至支撑件的内部。