[实用新型]薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备

权利要求书

1.一种薄形光阻成形系统，其特征在于，所述薄形光阻成形系统用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形系统包括：

一雾化腔室，用来避免所述转印滚轮被环境中的污染源粘附；以及

一薄形光阻成形设备，设置于所述雾化腔室中，所述薄形光阻成形设备包含：

一滚轮固定装置，用来固定所述转印滚轮；及

一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，并且至少一个所述雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化所述水性光阻溶液；

其中，所述雾化装置用来朝向所述转印滚轮喷涂雾化的所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

2.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

3.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。

4.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，并且所述夹持机构用来夹持并转动所述转印滚轮。

5.根据权利要求4所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述夹持机构包含一速度控制单元，所述速度控制单元能用来使所述转印滚轮以一无扰流速度转动。

6.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述薄形光阻成形系统还包含一软烤装置，所述软烤装置能用来烘烤所述光阻层，并使所述光阻层的溶剂含量降低。

7.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述薄形光阻成形设备还包含一移动装置，所述移动装置安装在所述雾化装置上，并且所述移动装置用于使所述雾化装置相对于所述转印滚轮移动。

8.一种薄形光阻成形设备，其特征在于，所述薄形光阻成形设备用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形设备包括：

一滚轮固定装置，用来固定并转动所述转印滚轮；以及

一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，至少一个所述雾化器用来朝向所述转印滚轮雾化所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

9.根据权利要求8所述的薄形光阻成形设备，其特征在于，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

10.根据权利要求8所述的薄形光阻成形设备，其特征在于，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。