[实用新型]薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备

说明书

本实用新型公开了薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备。薄形光阻成形系统用来对转印滚轮的外表面喷涂光阻层，其包括：雾化腔室；及薄形光阻成形设备，设置于雾化腔室中，薄形光阻成形设备包含：滚轮固定装置；及雾化装置，邻近滚轮固定装置设置，且雾化装置包含至少一个雾化器以及对应至少一个雾化器设置的溶液槽；其中，溶液槽中容纳有水性光阻溶液，并且至少一个雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化水性光阻溶液。本实用新型的有益效果在于，薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备能通过“雾化装置用来使雾化的水性光阻溶液在外表面上形成光阻层”的技术方案，减少光阻层在外表面上形成的时间和光阻层的厚度。

技术领域

本实用新型涉及一种光阻成形系统及一种光阻成形设备，特别是涉及一种薄形光阻成形系统及一种薄形光阻成形设备。

背景技术

现有的光阻涂布设备经常是以液滴喷涂的方式将一光阻液分布在一金属滚轮的外表面上并形成一光阻层。然而，现有的光阻涂布设备若要完成上述作业流程，在将所述光阻液喷涂至所述金属滚轮的过程中，经常需要耗费大量的时间在喷涂所述光阻液的工艺上，否则被喷涂的所述外表面上的所述光阻液将可能没有均匀分布，从而导致由所述光阻液所形成的所述光阻层在后续制程中有较高的机率发生剥离或薄膜迭层等问题。

此外，以液滴喷涂的方式形成的所述光阻层的厚度不容易控制，从而导致所述光阻层在后续的曝光制程中容易因为厚度过厚而发生所述光阻层曝光不完全的问题。

因此，如何通过提供一种薄形光阻成形系统及一种薄形光阻成形设备来克服上述的缺陷已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种薄形光阻成形系统及一种薄形光阻成形设备，以用来改善现有的技术问题。

本实用新型的其中一个实施例公开一种薄形光阻成形系统，所述薄形光阻成形系统用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形系统包括：一雾化腔室，用来避免所述转印滚轮被环境中的污染源粘附；以及一薄形光阻成形设备，设置于所述雾化腔室中，所述薄形光阻成形设备包含：一滚轮固定装置，用来固定所述转印滚轮；及一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，并且至少一个所述雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化所述水性光阻溶液；其中，所述雾化装置用来朝向所述转印滚轮喷涂雾化的所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

优选地，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

优选地，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。

优选地，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，并且所述夹持机构用来夹持并转动所述转印滚轮。

优选地，所述夹持机构包含一速度控制单元，所述速度控制单元能用来使所述转印滚轮以一无扰流速度转动。

优选地，所述薄形光阻成形系统还包含一软烤装置，所述软烤装置能用来烘烤所述光阻层，并使所述光阻层的溶剂含量降低。

优选地，所述薄形光阻成形设备还包含一移动装置，所述移动装置安装在所述雾化装置上，并且所述移动装置用于使所述雾化装置相对于所述转印滚轮移动。