[实用新型]一种CMP抛光垫压缩比测量装置

说明书

本实用新型提供了一种CMP抛光垫压缩比测量装置，包括：支撑装置(1)、调节装置(2)、测量装置(3)和计算装置(4)，所述测量装置(3)包括：电缸(31)、扁担(32)、两根第一导向轴(33)和两根第二导向轴(34)，第一砝码(35)、第二砝码(36)、指示表(37)和平面测头(38)，其中，电缸(31)位于扁担(32)之上，所述扁担(32)通过螺栓与第一导向轴(33)和第二导向轴(34)连接，所述第一导向轴(33)用于第一砝码(35)的固定，采用自动数据采集和计算系统，可有效降低人为读数的误差，节约人力成本，且底部台架使用真空吸附式设计，可通过控制真空吸附的压力，降低测量误差。

技术领域

本实用新型涉及CMP抛光垫技术领域，特别是涉及一种CMP抛光垫压缩比测量装置。

背景技术

随着集成电路的特征尺寸向着深纳米制程的发展过程中，特征尺寸越来越小，CMP制程带来的缺陷，在先进制程中变得越来越突出，甚至达到严重影响芯片性能的程度。为此，作为CMP制程四大核心材料之一的抛光垫，追求其性能的极致是抛光垫研发中的永恒话题。对于抛光垫的性能指标，趋于极致的稳定性与均一性在CMP领域得到越来越多的共识。对于抛光垫的稳定性与均一性要求，从不同批次之间、同一批次的不同片抛光垫之间的宏观指标诸如硬度、密度、压缩比、压缩回复率的稳定与均一。其中压缩比作为CMP抛光垫生产过程中重要的控制指标，对产品的质量和应用效果影响重大，因此，提供一种压缩比测量装置及测量方法显得尤为重要。

实用新型内容

本申请针对现有技术中的不足，提供了一种CMP抛光垫压缩比的测量装置，可以有效降低人为读数产生的误差，并且由其中的计算装置对测量的数据直接进行数据分析，大幅降低了人为计算工作时间。

本实用新型提供一种CMP抛光垫压缩比测量装置，包括：支撑装置(1)、调节装置(2)、测量装置(3)和计算装置(4)，其特征在于，所述测量装置(3)包括：电缸(31)、扁担(32)、两根第一导向轴(33)和两根第二导向轴(34)，第一砝码(35)、第二砝码(36)、指示表(37)和平面测头(38)，其中，电缸(31)位于扁担(32)之上，所述扁担(32)通过螺栓与第一导向轴(33)和第二导向轴(34)连接，所述第一导向轴(33)用于第一砝码(35)的固定，所述第二导向轴(34)贯通第一砝码的通孔，用于第二砝码(36)的固定，所述第二砝码(36)位于第一砝码(35)下方，所述指示表(37)位于第二砝码(36)下方且与平面测头(38)固定连接；

进一步的，所述支撑装置(1)包括台架(11)和立柱(12)，其中，所述立柱(12)固定于台架(11)上；

进一步的，所述调节装置(2)包括光轴夹具(21)、第一调节器(22)、第二调节器(23)和第三调节器(24)，所述光轴夹具(21)和第一调节器(22)安装于立柱(12)上，所述光轴夹具(21)和第一调节器(22)可在立柱(12)轴向上下滑动，所述第二调节器(23)与第一调节器(22)固定连接，所述第二调节器(23)与第三调节器(24)通过固定垫片连接，所述第三调节器(24)还设置有固定孔，所述平面测头(38)贯穿第三调解器(24)的固定孔；

进一步的，所述光轴夹具(21)设置有固定孔(211)，用于光轴夹具(21)的固定，所述第一调节器(22)、第二调节器(23)和第三调节器(24)上分别设置有第一紧固旋钮(221)、第二紧固旋钮(222)和第三紧固旋钮(223)，所述第一紧固旋钮(221)用于第一调节器(22)的固定，所述第二紧固旋钮(222)用于第二调节器(23)和第三调节器(24)之间距离的微调，所述第三紧固旋钮(223)用于平面测头(38)的紧固；

进一步的，所述光轴夹具(21)上方与电缸(31)固定连接，所述光轴夹具(21)下方与扁担(32)连接，其中光轴夹具(21)和扁担(32)之间的距离为3-5cm；

进一步的，所述计算装置(4)包括计算终端(41)和触摸屏(42)所述计算终端(41)与指示表(37)通信连接；