[实用新型]加热组件及加热雾化装置有效
申请号: | 202120125622.2 | 申请日: | 2021-01-18 |
公开(公告)号: | CN215455414U | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 周宏明;金鹤;肖俊杰;刘华 | 申请(专利权)人: | 深圳麦克韦尔科技有限公司 |
主分类号: | A24F40/46 | 分类号: | A24F40/46;A24F40/40;A24F40/20 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 518102 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加热 组件 雾化 装置 | ||
1.一种加热组件,其特征在于,具有能够与气溶胶生成基质接触的外表面,所述外表面的一部分相对凹陷而使所述加热组件具有低表面能结构,所述低表面能结构为微米结构和/或纳米结构。
2.根据权利要求1所述的加热组件,其特征在于,所述加热组件包括基体、加热层和绝缘导热层,所述加热层叠置在所述基体和所述绝缘导热层之间,所述绝缘导热层远离所述加热层一侧的表面形成所述外表面。
3.根据权利要求2所述的加热组件,其特征在于,以相互垂直的第一方向和第二方向为参考,所述低表面能结构包括由所述外表面凹陷形成的多个第一凹槽,所述第一凹槽整体沿所述第一方向延伸,全部所述第一凹槽沿所述第二方向间隔排列,所述第一凹槽在所述第二方向所占据的宽度为0.01μm至500μm,相邻两个所述第一凹槽之间的间距为0.02μm至500μm,所述第一凹槽的凹陷深度为0.01μm至100μm。
4.根据权利要求3所述的加热组件,其特征在于,所述第一凹槽为直线形槽或曲线形槽。
5.根据权利要求3所述的加热组件,其特征在于,所述低表面能结构还包括由所述外表面凹陷形成的多个第二凹槽,所述第二凹槽整体沿所述第二方向延伸,全部所述第二凹槽沿所述第一方向间隔排列,所述第一凹槽和所述第二凹槽相互交叉设置而连通。
6.根据权利要求5所述的加热组件,其特征在于,所述第二凹槽在所述第一方向所占据的宽度为0.01μm至500μm,相邻两个所述第二凹槽之间的间距为0.02μm至500μm,所述第二凹槽的凹陷深度为0.01μm至100μm,所述第二凹槽为直线形槽或曲线形槽。
7.根据权利要求5所述的加热组件,其特征在于,所述绝缘导热层包括呈矩阵式排列的多个凸柱,所述凸柱的横截面为圆形、椭圆形、矩形、菱形或正多边形。
8.根据权利要求7所述的加热组件,其特征在于,对于在所述第一方向间隔设置的任意相邻两行所述凸柱,两行所述凸柱在所述第一方向上的正投影完全重叠、部分重叠或者不重叠。
9.根据权利要求2所述的加热组件,其特征在于,所述低表面能结构包括由所述外表面凹陷形成的多个沉孔,全部所述沉孔呈矩阵式排列,所述沉孔的横截面尺寸为0.01μm至500μm,相邻两个所述沉孔之间的间距为0.02μm至500μm,所述沉孔的凹陷深度为0.01μm至100μm。
10.根据权利要求2所述的加热组件,其特征在于,所述低表面能结构包括凹槽或沉孔,所述绝缘导热层具有叠置在所述加热层上的层叠面,所述凹槽或所述沉孔与所述层叠面保持设定间距。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的加热组件,其特征在于,所述低表面能结构通过化学蚀刻工艺、激光蚀刻工艺、等离子蚀刻工艺和机械加工工艺四者中的至少一种加工形成。
12.一种加热雾化装置,其特征在于,包括权利要求1至11中任一项所述的加热组件。
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