[实用新型]一种用于镀膜的蒸镀装置有效
申请号: | 202120149790.5 | 申请日: | 2021-01-20 |
公开(公告)号: | CN214271023U | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 周鹏;张万财 | 申请(专利权)人: | 厦门海辰新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26 |
代理公司: | 成都帝鹏知识产权代理事务所(普通合伙) 51265 | 代理人: | 李华 |
地址: | 361000 福建省厦门市火炬高新区*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 镀膜 装置 | ||
1.一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,包括坩埚本体、电涡流线圈(3)和感应加热电源,所述坩埚本体包括方形坩埚(1)和圆形坩埚(2),在方形坩埚(1)底部连通集成有圆形坩埚(2),在所述圆形坩埚(2)上包裹有电涡流线圈(3),所述电涡流线圈(3)连接感应加热电源。
2.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,在所述方形坩埚(1)底部设置有多个圆形坩埚(2),圆形坩埚(2)顶部与方形坩埚(1)相互贯通。
3.根据权利要求2所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,所述多个圆形坩埚(2)错位排布在方形坩埚(1)底部。
4.根据权利要求3所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,所述多个圆形坩埚(2)分为前后2排且这2排均匀交错排布。
5.根据权利要求4所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,每排圆形坩埚(2)之间等距分布。
6.根据权利要求1-5任一所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,所述圆形坩埚(2)直径为50-200mm,高度为100-300mm。
7.根据权利要求1-5任一所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,所述方形坩埚(1)长度为800-2500mm,宽度为200-400mm,高度为100-300mm。
8.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,所述电涡流线圈(3)采用中空紫铜管。
9.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,所述坩埚本体为石墨结构。
10.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的蒸镀装置,其特征在于,在所述坩埚本体的上方还安装有电子枪,所述电子枪的安装位置与方向使电子枪的电子束扫描范围覆盖于坩埚本体上。
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