[实用新型]一种用于镀膜的蒸镀装置

说明书

本实用新型公开了一种用于镀膜的蒸镀装置，包括坩埚本体、电涡流线圈和感应加热电源，所述坩埚本体包括方形坩埚和圆形坩埚，在方形坩埚底部连通集成有圆形坩埚，在所述圆形坩埚上包裹有电涡流线圈，所述电涡流线圈连接感应加热电源。本实用新型既能够保证蒸镀时膜面镀层均匀性，又能提高生产产品的产能。

技术领域

本实用新型属于镀膜技术领域，尤其涉及一种用于镀膜的蒸镀装置。

背景技术

目前随着国家电动汽车、储能等新能源发展，薄膜镀金属导电基材代替铜箔、铝箔的应用也越来越广泛。随着锂电行业安全性能不断提高，针对基材薄膜的性能越来越高，包括整个基材镀层的均匀性、基材针孔大小。通常采用的PVD真空镀膜技术主要有离子镀、磁控溅射镀及蒸发镀，其中蒸发镀包含的方式主要有电阻加热式(蒸发舟)、中频加热式(坩埚)、电子枪。

目前用于镀膜的坩埚蒸发设备主要存在下列问题：坩埚承载量有限，生产产品产能有限；对产品镀层均匀性较差；整体的升温速度慢导致生产效率较慢，单位时间产能有限，时间成本浪费高。

现有的坩埚加热蒸发，蒸发源为点状蒸发，蒸发后的微小材料分子呈点状散射最终沉积在基材表面，距离散射中心较近的地方镀层较厚，远离散射中心的镀层较薄，故层厚镀层厚度均匀性较差，厚度均匀性一般在±7％左右。

现有的坩埚蒸发仅依靠电子束高速轰击待镀材料上表面使之升温，加热面积较小，待镀材料通常需要1小时甚至数个小时才能由室温加热至蒸发状态，材料加热时间长，时间成本高。

现有的坩埚容积受限，待镀材料单次装填量少，材料蒸发完以后需降温重新装料并再次升温，需要的时间较长。

实用新型内容

为了克服现有技术方法的不足，本实用新型的目的在于提出一种用于镀膜的蒸镀装置，既能够保证蒸镀时膜面镀层均匀性，又能提高生产产品的产能。

为实现以上目的，本实用新型采用技术方案是：一种用于镀膜的蒸镀装置，包括坩埚本体、电涡流线圈和感应加热电源，所述坩埚本体包括方形坩埚和圆形坩埚，在方形坩埚底部连通集成有圆形坩埚，在所述圆形坩埚上包裹有电涡流线圈，所述电涡流线圈连接感应加热电源。

进一步的是，在所述方形坩埚底部设置有多个圆形坩埚，圆形坩埚顶部与方形坩埚相互贯通。

进一步的是，所述多个圆形坩埚错位排布在方形坩埚底部。

进一步的是，所述多个圆形坩埚分为前后2排且这2排均匀交错排布。

进一步的是，每排圆形坩埚之间等距分布。根据坩埚直径d设定圆形坩埚之间中心距离；根据方形坩埚长度L设定圆形坩埚数量。

进一步的是，所述圆形坩埚直径为50-200mm，高度为100-300mm；最优值为直径80-140mm，高度100-160mm，根据工艺需求的不同，设计尺寸可以做相应调整。

进一步的是，所述方形坩埚长度为800-2500mm，宽度为200-400mm，高度为100-300mm。最优值为长度900-1200mm，宽度240-340mm，高度180-220mm，根据工艺需求的不同，设计尺寸可以做相应调整。

进一步的是，所述电涡流线圈采用中空紫铜管，中空内部可通冷却水进行冷却。

进一步的是，所述坩埚本体为石墨结构。

进一步的是，在所述坩埚本体的上方还安装有电子枪，所述电子枪的安装位置与方向使电子枪的电子束扫描范围覆盖于坩埚本体上。可以通过线圈涡流方式和电子枪方式进行同时加热蒸镀。能够保证蒸镀时膜面镀层均匀性，又能提高单次生产产品的产能。

采用本技术方案的有益效果：