[实用新型]一种用于硅片清洗后的除湿装置

权利要求书

1.一种用于硅片清洗后的除湿装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的下表面固定连接有支撑腿(9)，所述底板(1)的上表面固定连接有立柱(2)，所述立柱(2)的顶端固定连接有固定块(3)，所述固定块(3)的右侧固定连接有固定板(5)，所述立柱(2)的表面套接有活动环(17)，所述活动环(17)的右侧固定连接有活动板(7)，所述活动板(7)的上表面开设有与下表面相连通的排液孔(8)，所述固定板(5)和活动板(7)相对的一侧均固定连接有橡胶板(4)和海绵层(6)，所述底板(1)的上表面开设有与下表面相连通的通孔(12)，所述底板(1)的下表面固定连接有第一液压杆(11)，所述第一液压杆(11)的顶端贯穿通孔(12)并与活动板(7)的下表面固定连接，所述底板(1)的上表面搭接有支撑杆(19)，所述支撑杆(19)的顶端固定连接有第二液压杆(20)，所述第二液压杆(20)的右端固定连接有推杆(21)，所述立柱(2)的左侧开设有与右侧相连通的活动孔(22)，所述推杆(21)的表面与活动孔(22)的内部活动连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗后的除湿装置，其特征在于：所述底板(1)的上表面开设有与下表面相连通的定位孔(16)，所述定位孔(16)的内部插接有螺栓(14)，所述螺栓(14)的顶端与支撑杆(19)的底端固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种用于硅片清洗后的除湿装置，其特征在于：所述螺栓(14)的表面螺纹连接有螺帽(15)。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗后的除湿装置，其特征在于：所述第一液压杆(11)的左右两侧均固定连接有加固杆(10)，两个加固杆(10)远离第一液压杆(11)的一端与底板(1)的下表面固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗后的除湿装置，其特征在于：所述立柱(2)的左侧开设有与右侧相连通的滑动孔(13)，所述滑动孔(13)的内部滑动连接有限位杆(18)。

6.根据权利要求5所述的一种用于硅片清洗后的除湿装置，其特征在于：所述限位杆(18)的左右两端分别与活动环(17)的左右两侧内壁固定连接。