[实用新型]一种扩散炉清洗装置

说明书

本实用新型提供一种扩散炉清洗装置，包括装置本体，装置本体上设有设备安装台，设备安装台上设有清洗槽，清洗槽两侧设有支撑柱，支撑柱上设有支架，支架包括支架盘，支架盘一侧设有支架轴，支架盘另一侧设有扩散炉管固定架，两侧扩散炉管固定架方向相对，两个扩散炉管固定架间设有扩散炉管，扩散炉管与清洗槽匹配，支架轴设在支撑柱上，支架轴外侧设有驱动电机，驱动电机设在电机支架上，电机支架设在设备安装台上；清洗槽侧壁设有喷水孔，喷水孔与水泵连接，水泵设在设备安装台上；清洗槽上还设有进水管和出水管，进水管与清洗剂存储箱上的电动阀门连接，出水管上设有排水电动阀，排水电动阀与污水收集箱连接，清洗槽连接有超声波发生器。

技术领域

本实用新型属于扩散炉清洗技术领域，具体涉及一种扩散炉清洗装置。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散炉有垂直扩散炉和水平扩散炉两种类型。垂直扩散炉是石英舟垂直于水平面，更加有利于机械手传送硅片，片内工艺参数一致性更好。水平扩散炉是石英舟平行于水平面，一台可以4个或4个以上的工艺炉管，平均炉管的占地面积更小，片间的工艺参数较垂直扩散炉更好。扩散炉在使用后需要及时清洗，现有的扩散炉管清洗装置为整体浸泡式，在槽体滚轮上放置炉管，加药液没过炉管，开启旋转滚轮，转动炉管，待管壁干净后排尽槽内酸性溶液，开启水阀冲水，继续转动炉管；待水质达到13MΩ时，排尽槽内水，炉管晾干待装。该设备存在如下缺陷：浸泡式酸处理浪费化剂和水，并且会损伤炉管表面耐高温层，缩短炉管寿命。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种扩散炉清洗装置，结构简单，清洗效率高，节省清洗剂和水，且不会损伤炉管表面的耐高温层。

本实用新型提供了如下的技术方案：

一种扩散炉清洗装置，其特征在于，包括装置本体，所述装置本体上设有设备安装台，所述设备安装台上设有清洗槽，所述清洗槽两侧设有支撑柱，所述支撑柱上可活动的设有支架，所述支架包括支架盘，所述支架盘一侧设有支架轴，所述支架盘的另一侧设有扩散炉管固定架，两侧的所述支架的所述扩散炉管固定架方向相对，两个所述扩散炉管固定架之间设有扩散炉管，所述扩散炉管的尺寸与所述清洗槽的尺寸相匹配，两个所述支架轴可活动的设在所述支撑柱上，所述支架轴外侧设有驱动电机，所述驱动电机固定在电机支架上，所述电机支架固定在设备安装台上；所述清洗槽的侧壁均布设有喷水孔，所述喷水孔与水泵连接，所述水泵固定在所述设备安装台上；所述清洗槽上还设有进水管和出水管，所述进水管与清洗剂存储箱上的电动阀门连接，所述出水管上设有排水电动阀，所述排水电动阀与污水收集箱连接，所述清洗槽连接有超声波发生器。

优选的，所述支撑柱顶端设有支撑孔，所述支撑孔中嵌有轴承，所述支架轴设在所述轴承中。

优选的，所述支架盘一半位于所述清洗槽中，所述扩散炉管固定架有多个，最下方的所述扩散炉管位于所述清洗槽中，最下方的所述扩散炉管低于所述喷水孔的高度。

优选的，所述支撑柱的高度大于所述清洗槽的高度，所述支架与所述清洗槽不接触。

优选的，所述出水管位于所述清洗槽的底部。

优选的，所述进水管的高度低于所述喷水孔。

优选的，所述超声波发生器发出的超声波频率大于1000Hz。

本实用新型的有益效果是：结构简单，通过在支撑柱顶端的支撑孔中嵌有轴承，实现支架与支撑柱之间的可活动连接，支架与清洗槽之间不接触，避免支架旋转过程和超声波清洗过程中互相影响；通过对扩散炉管进行逐一超声波清洗，避免长时间浸泡影响扩散炉管的使用寿命，同时能够节省清洗剂和水，并且不会损伤炉管表面耐高温层，利用超声波清洗的清洗效率更高，可靠性高。

附图说明