[实用新型]一种硅片垂直转水平传输防滑移装置有效

专利信息
申请号: 202120188977.6 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN214099611U 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 顾韻 申请(专利权)人: 无锡市南亚科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;陆旦华
地址: 214124 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 垂直 水平 传输 滑移 装置
【说明书】:

本实用新型涉及一种硅片垂直转水平传输防滑移装置,包括月亮弯板和滚轴,所述月亮弯板上设有圆弧部,月亮弯板的两端分别设有滚轴;所述月亮弯板和滚轴上设置平皮带,滚轴转动从而带动平皮带移动;所述月亮弯板的圆弧部表面开有凹槽,月亮弯板的一侧侧部开有吸风口,所述吸风口与凹槽连通;所述平皮带上均布排孔。本实用新型使硅片在由垂直转水平传输过程中保持稳定,防止产生滑移。

技术领域

本实用新型涉及一种硅片垂直转水平传输防滑移装置,属于硅片分片传送装置技术领域。

背景技术

现有的硅片分片传送装置,主要是用水刀将层叠的硅片组100逐片分离,分离后的单片硅片通过吸盘固定,吸盘再将单片的硅片移送到水平的传送带上,进行烘干和包装,具体结构见发明专利20151005109.6。硅片分片传送装置,包括硅片组传送装置,还包括竖向传送装置和水平过渡传送装置,所述的硅片组传送装置末端与竖向传送装置连接,竖向传送装置与水平过渡传送装置共用同一传送带,竖向传送装置与水平过渡传送装置的连接处有压轮;所述的传送带上有通孔,所述的竖向传送装置还有硅片吸盘,所述的硅片吸盘安装在传送带的背面,所述的硅片吸盘上有气孔,所述的气孔与传送带上的通孔对应,所述的气孔与抽气装置连接;所述的传送带为两条,分别与前板的两排气孔位置对应;所述的硅片吸盘包括前板和后板,所述的前板有两排竖直排列的气孔 ,所述的后板对应有两个竖直的槽,所述的两个竖直的槽分别与抽气孔连通,所述抽气孔与抽气装置连接;硅片组传送装置的末端安装有硅片分片水刀,硅片组传送装置末端还安装有推送喷头,所述的推送喷头喷射方向朝向竖向传送装置。

上述硅片分片传送装置所存在的问题在于,当硅片被吸盘吸住后,经过竖向传送装置,再传送到水平过渡传送装置,此时,硅片容易在水平过渡传送装置的月亮弯板上产生滑移,因而影响传送的稳定性。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的不足,提供一种硅片垂直转水平传输防滑移装置,使硅片在由垂直转水平传输过程中保持稳定,防止产生滑移。

按照本实用新型提供的技术方案:一种硅片垂直转水平传输防滑移装置,包括月亮弯板和滚轴,所述月亮弯板上设有圆弧部,月亮弯板的两端分别设有滚轴;所述月亮弯板和滚轴上设置平皮带,滚轴转动从而带动平皮带移动;所述月亮弯板的圆弧部表面开有凹槽,月亮弯板的一侧侧部开有吸风口,所述吸风口与凹槽连通;所述平皮带上均布排孔。

进一步地,所述凹槽为弧形,凹槽设置于圆弧部的中部。

进一步地,所述凹槽的中部向下设有槽孔,槽孔与吸风口连通。

进一步地,所述排孔的直径为2-3mm,所述凹槽的深度为18-20mm。

本实用新型与现有技术相比,具有如下优点:

本实用新型结构简单新颖,安装在硅片分片传送装置的水平过渡传送装置上,使硅片在由垂直转水平传输过程中保持稳定,防止产生滑移。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的剖视图。

附图标记说明:1-月亮弯板,2-凹槽,3-平皮带,4-排孔,5-吸风口,6-滚轴、7-圆弧部、8-槽孔。

具体实施方式

下面结合具体附图对本实用新型作进一步说明。

如图1和图2所示,一种硅片垂直转水平传输防滑移装置,包括月亮弯板1和滚轴6,所述月亮弯板1上设有圆弧部7,月亮弯板1的两端分别设有滚轴6;所述月亮弯板1和滚轴6上设置平皮带3,滚轴6转动从而带动平皮带3移动;所述月亮弯板1的圆弧部7表面开有凹槽2,月亮弯板1的一侧侧部开有吸风口5,所述吸风口5与凹槽2连通;所述平皮带3上均布排孔4。

所述凹槽2为弧形,凹槽2设置于圆弧部7的中部。

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