[实用新型]一种用于蒸镀的坩埚结构及蒸镀设备有效
| 申请号： | 202120198354.7 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN214694344U | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 张麒麟 | 申请（专利权）人： | 福建华佳彩有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人： | 林祥翔;徐剑兵 |
| 地址： | 351100 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 坩埚 结构 设备 | ||
1.一种用于蒸镀的坩埚结构，其特征在于，包括内层坩埚、外层坩埚、上盖、第一垫片和第二垫片；
所述内层坩埚包括顶部敞口的第一腔体，所述第一腔体用于容置蒸镀物；
所述外层坩埚包括顶部敞口的第二腔体，所述内层坩埚的外壁通过所述第一垫片设置在所述第二腔体中，所述第一垫片用于增加内层坩埚和外层坩埚的导热均匀性；
所述上盖的底部通过第二垫片设置在内层坩埚的顶部上，所述第二垫片用于增加上盖和内层坩埚之间的导热均匀性，所述上盖包括喷嘴，所述喷嘴连通上盖的一侧和位于上盖另一侧的第一腔体。
2.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀的坩埚结构，其特征在于，所述上盖的侧壁也通过第二垫片设置在第二腔体上。
3.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀的坩埚结构，其特征在于，所述外层坩埚的顶部的高度低于所述上盖的顶部的高度。
4.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀的坩埚结构，其特征在于，所述第二垫片的顶部的高度低于所述外层坩埚的顶部的高度。
5.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀的坩埚结构，其特征在于，所述内层坩埚为热解氮化硼的内层坩埚，所述第一垫片为石墨的第一垫片，所述外层坩埚为钽的外层坩埚。
6.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀的坩埚结构，其特征在于，所述内层坩埚的横截面的形状为圆形，所述第一垫片的横截面的形状为圆形，所述第二腔体的横截面的形状为圆形。
7.一种蒸镀设备，其特征在于，包括坩埚结构和加热装置，所述加热装置设置在所述坩埚结构的一侧，所述坩埚结构为权利要求1至6任意一项所述的一种用于蒸镀的坩埚结构。
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