[实用新型]一种两段式吸附光罩有效
申请号: | 202120223218.9 | 申请日: | 2021-01-27 |
公开(公告)号: | CN214848687U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 金华君;吴聪原 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;C23C14/04 |
代理公司: | 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 段惠存 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 段式 吸附 | ||
1.一种两段式吸附光罩,其特征在于,包括掩模框、第一掩模板、第二掩模板、基板和磁板;
所述第一掩模板的受磁性大于所述第二掩模板,所述第二掩模板和所述第一掩模板先后依次重叠且相互紧贴地固定在所述掩模框的一面上,所述第一掩模板远离所述第二掩模板的一面设置有所述基板,所述基板远离所述第一掩模板的一侧设有所述磁板;
所述第一掩模板上的面板区域和所述第二掩模板上的开口数量相同且位置一一对应重叠,所述面板区域能完全覆盖对应的所述开口且只与一个所述开口发生重叠,所述磁板用于先后依次吸附所述第一掩模板和所述第二掩模板至所述基板上。
2.根据权利要求1所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述第一掩模板的组成物质为强磁性材料,所述第二掩模板的组成物质为弱磁性材料;
所述第二掩模板的面积大于所述第一掩模板。
3.根据权利要求1所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述第二掩模板的厚度为[80μm,120μm],所述第一掩模板的厚度为[20μm,30μm]。
4.根据权利要求1所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述第二掩模板的边沿设有多个焊接条,所述掩模框的框边上设有数量和位置均与所述焊接条对应的焊接槽,所述焊接条与对应的所述焊接槽焊接固定;
所述焊接槽的槽深与所述第二掩模板的厚度相等,所述焊接槽的宽与所述焊接条的大小相同;
所述第二掩模板上靠近所述第一掩模板的上表面与所述掩模框上靠近所述第一掩模板的上表面处于同一水平面。
5.根据权利要求1所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述面板区域为两个以上的开孔排列组成的网状结构,所述开孔的面积小于所述开口的面积。
6.根据权利要求4所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述第一掩模板由两个以上的掩模条排列组成,所有所述面板区域均匀分布于所述掩模条上。
7.根据权利要求6所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述第一掩模板包括第一对位掩模条和第二对位掩模条;
所述第一对位掩模条的两端和所述第二对位掩模条的两端均设有对位孔;
所述第一对位掩模条和所述第二对位掩模条通过所述对位孔焊接固定在所述掩模框上,所述第一对位掩模条的中间部和所述第二对位掩模条的中间部分别与所述第二掩模板的侧边及其对边重合。
8.根据权利要求6所述的一种两段式吸附光罩,其特征在于,所述第二掩模板的一条侧边的两端及其对边的两端均设有对位孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建华佳彩有限公司,未经福建华佳彩有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120223218.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择