[实用新型]一种工艺设备有效
申请号: | 202120253417.4 | 申请日: | 2021-01-27 |
公开(公告)号: | CN214099642U | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙) |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 薛异荣 |
地址: | 242074 安徽省宣城市经济*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工艺设备 | ||
1.一种工艺设备,包括工艺腔体,其特征在于,还包括:
冷却单元,所述冷却单元设置于所述工艺腔体的一侧,所述冷却单元包括冷却板,所述冷却板适于承载晶圆,所述晶圆适于制备太阳能电池;
第一传输单元,所述第一传输单元位于所述工艺腔体和所述冷却单元之间,所述第一传输单元适于将所述晶圆从所述工艺腔体中传输至所述冷却单元;
传送带,所述传送带设置于所述冷却单元的一侧;
第二传输单元,所述第二传输单元适于将所述晶圆由所述冷却单元传送至所述传送带上。
2.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,所述冷却板中具有冷却管道;
所述冷却单元还包括:循环冷却水箱,所述循环冷却水箱适于给所述冷却管道提供冷却液。
3.根据权利要求2所述的工艺设备,其特征在于,所述冷却板中开设若干第一通孔;所述冷却单元还包括第一升降部件,所述第一升降部件包括:
位于所述冷却板底部的第一升降托盘;
位于所述第一升降托盘上的第一顶针,所述第一顶针适于穿过所述第一通孔;
位于所述第一升降托盘底部的第一升降驱动件。
4.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,所述第一传输单元包括:
承载平台;
位于所述承载平台上的环形导轨和旋转平台,所述旋转平台适于在所述环形导轨上方沿着所述环形导轨运动;
设置在所述旋转平台上的线性导轨;
位于所述旋转平台上的第一机械手臂,所述第一机械手臂包括位于部分所述旋转平台上的滑动平台以及与所述滑动平台连接的插板,所述滑动平台适于沿着所述线性导轨进行往复运动;
位于所述承载平台下方的旋转驱动件;
贯穿所述承载平台的第一传动轴,所述第一传动轴的一端连接所述旋转平台,所述第一传动轴的另一端连接旋转驱动件;
位于所述承载平台下方的滑动驱动件;
贯穿所述承载平台和所述旋转平台的第二传动轴,所述第二传动轴的一端连接所述滑动驱动件,所述第二传动轴的另一端连接所述滑动平台。
5.根据权利要求4所述的工艺设备,其特征在于,所述旋转平台朝向所述环形导轨的底面具有与所述环形导轨嵌合的第一滑动件,所述第一滑动件为槽或者凸起;
所述第一机械手臂朝向所述线性导轨的底面具有与所述线性导轨嵌合的第二滑动件,所述第二滑动件为槽或者凸起。
6.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,所述第二传输单元包括第二机械手臂和设置于所述第二机械手臂底部的吸附件,所述吸附件适于吸附经过所述冷却单元冷却之后的所述晶圆。
7.根据权利要求6所述的工艺设备,其特征在于,所述吸附件的数量为若干个,若干个所述吸附件适于同时吸附经过所述冷却单元冷却之后的多个所述晶圆。
8.根据权利要求1-7任一项所述的工艺设备,其特征在于,所述工艺腔体为化学气相沉积工艺腔体。
9.根据权利要求1-7任一项所述的工艺设备,其特征在于,所述晶圆适于由工艺载板直接支撑,所述工艺载板中设置有若干个凹槽,所述晶圆适于放置于所述凹槽内;所述第一传输单元适于将所述工艺载板和所述晶圆从所述工艺腔体中一并传输至所述冷却单元,所述第一传输单元传输所述晶圆的过程中适于位于所述工艺载板的底部。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的