[实用新型]一种磁控溅射真空镀膜机有效
申请号: | 202120258709.7 | 申请日: | 2021-01-29 |
公开(公告)号: | CN214327869U | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 谢学东;谢辉东 | 申请(专利权)人: | 丹阳市宝来利真空机电有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/50 |
代理公司: | 盐城市苏知桥知识产权代理事务所(普通合伙) 32439 | 代理人: | 耿丹丹 |
地址: | 212300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 真空镀膜 | ||
本实用新型涉及真空镀膜机技术领域,且公开了一种磁控溅射真空镀膜机,包括底座,所述底座的顶部固定安装有设备外壳,所述底座顶部的右侧固定安装有第一电机。该磁控溅射真空镀膜机,当需要进行镀膜喷涂时,左拉拉杆,由推环推动挤压弹簧被压缩,通过挤压弹簧所产生的挤压回弹,使得零件被固定,接着将第二电机打开,使螺纹杆转动,移动块左右移动,带动磁控喷射头左右移动,即可对下端的零件喷涂,在喷涂过程中,将第一电机启动,使蜗杆转动,通过啮合带动蜗轮旋转,使得转杆转动,从而带动转动架转动,使得零件可以旋转,配合控喷射头的左右移动喷涂,使得零件的表面可以快速覆盖,喷涂效率非常高。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜机技术领域,具体为一种磁控溅射真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延和PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种,需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材,基片与靶材同在真空腔中,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜,对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
目前现有的磁控溅射真空镀膜机一般存在着不便于使用的缺点,传统的磁控溅射真空镀膜机其自动化程度较低,一般为固定式夹具,在固定好零件后,无法灵活进行旋转,导致喷涂效率低下,效果也不够理想,不能更好的满足人们的使用需求,故而提出一种磁控溅射真空镀膜机来解决上述所提出的问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种磁控溅射真空镀膜机,具备便于使用等优点,解决了目前现有的磁控溅射真空镀膜机一般存在着不便于使用的缺点,传统的磁控溅射真空镀膜机其自动化程度较低,一般为固定式夹具,在固定好零件后,无法灵活进行旋转,导致喷涂效率低下,效果也不够理想,不能更好的满足人们使用需求的问题。
(二)技术方案
为实现上述便于使用的目的,本实用新型提供如下技术方案:一种磁控溅射真空镀膜机,包括底座,所述底座的顶部固定安装有设备外壳,所述底座顶部的右侧固定安装有第一电机,所述第一电机的输出轴固定安装有蜗杆,所述设备外壳的右侧壁活动安装有转杆,所述转杆的外侧固定安装有一端与蜗杆相啮合的蜗轮,所述转杆的左侧固定安装有转动架,所述设备外壳的左侧活动安装有拉杆,所述拉杆的右侧固定安装有推环,所述拉杆的外侧固定安装有挤压弹簧,所述推环的右侧活动安装有限位架,所述设备外壳右侧的顶部固定安装有第二电机,所述第二电机的输出轴固定安装有螺纹杆,所述螺纹杆的外侧活动安装有移动块,所述移动块的底部固定安装有磁控喷射头,所述移动块的顶部固定安装有滑动板,所述设备外壳的内顶壁固定安装有滑轨,所述设备外壳左侧的底部固定安装有电推杆,所述电推杆的输出轴固定安装有推板。
优选的,所述推环的右侧固定安装有连接轴承,且推环通过连接轴承与限位架活动连接,所述拉杆的左侧固定安装有把手。
优选的,所述推板呈L字型,所述移动块的右侧开设有螺纹孔,且螺纹孔与螺纹杆相适配。
优选的,所述滑轨的底部开设有滑槽,且滑槽与滑动板相适配,所述推板的底部固定安装有毛刷。
优选的,所述拉杆与推环呈九十度垂直安装,所述第二电机与第一电机的外侧均固定安装有连接座。
优选的,所述设备外壳的左侧开设有穿孔,且穿孔与拉杆相适配,所述设备外壳的右侧活动安装有转动套轴,且设备外壳通过转动套轴与转杆活动连接。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种磁控溅射真空镀膜机,具备以下有益效果:
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