[实用新型]一种真空镀膜膜厚检测装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜膜厚检测装置，包括磁控溅射仪主腔及设置在磁控溅射仪主腔内的样品台，所述样品台底面固定设置高精度力传感器，所述高精度力传感器下方设有硅片，所述硅片相连设置在高精度力传感器上，所述磁控溅射仪主腔底部设有靶材支座，所述靶材支座上设有靶材，且靶材中心与硅片中心位于同一铅垂线上。本实用新型的有益效果：设计巧妙，结构合理，使用方便，应用本装置实现真空镀膜过程中的膜厚检测，大幅提高对在真空镀薄过程中膜厚度的了解程度，对薄膜的研究领域具有重要的意义。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜膜厚检测技术领域，具体涉及一种真空镀膜膜厚检测装置。

背景技术

具备优异力学性能的纳米薄膜在石油、化工、制药等领域具有广泛的应用前景。磁控溅射仪是一种先进、普及、成熟的镀膜仪器，适用于制备金属强化膜、半导体太阳能薄膜、磁性器件薄膜甚至陶瓷薄膜。通过磁控溅射镀膜，成膜速度快，薄膜质量高，膜-基结合力强，薄膜成分、结构均匀。在制备薄膜的过程中往往需要制备不同厚度的薄膜，用来研究薄膜的生长、应用于不同的场合等。目前的磁控溅射仪在镀膜时，还是很难在真空腔体内测量被镀在硅片上薄膜的厚度的。因此，如何开发能在真空中检测被镀薄膜的厚度的装置，能够较准确的得到被镀薄膜的厚度，已经成为优质薄膜研发领域的关键性难题。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述问题，本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜膜厚检测装置，以快速地、低成本地、操作简便地实现真空镀膜膜厚的检测。

本实用新型采用以下技术方案:

一种真空镀膜膜厚检测装置，其特征在于，包括磁控溅射仪主腔及设置在磁控溅射仪主腔内的样品台，所述样品台底面反向固定设置高精度力传感器，所述高精度力传感器下方设有硅片，所述硅片相连设置在高精度力传感器上，所述磁控溅射仪主腔底部设有靶材支座，所述靶材支座上设有靶材，且靶材中心与硅片中心位于同一铅垂线上。

所述的一种真空镀膜膜厚检测装置，其特征在于，所述样品台底部设有传感器安装孔，所述高精度力传感器通过第一螺丝、第一垫片、第二螺丝及第二垫片固定在样品台上。

所述的一种真空镀膜膜厚检测装置，其特征在于，所述高精度力传感器底部开设两个螺纹孔，所述硅片通过第一微型螺丝、第一硅片夹、第四微型螺丝及第二硅片夹夹持设置在高精度力传感器下方。

所述的一种真空镀膜膜厚检测装置，其特征在于，所述磁控溅射仪主腔的外部安装有显示屏，其显示屏与高精度力传感器电信号连接。

所述的一种真空镀膜膜厚检测装置，其特征在于，所述高精度力传感器下表面与样品台表面相平齐。

所述的一种真空镀膜膜厚检测装置，其特征在于，所述硅片的形状及尺寸与高精度力传感器下表面的形状及尺寸相同。

本实用新型的有益效果：设计巧妙，结构合理，使用方便，应用本装置实现真空镀膜过程中的膜厚检测，大幅提高对在真空镀薄过程中膜厚度的了解程度，对薄膜的研究领域具有重要的意义。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的A-A剖面结构示意图；

图3为本实用新型的B的局部放大示意图；

图4为本实用新型的样品台半剖示意图；

图中：1-电机，2-磁控溅射仪密封盖，3-连杆，4-磁控溅射仪密封法兰，5-第一螺丝，6-第二螺丝，7-样品台，8-高精度力传感器，9-磁控溅射仪主腔，10-靶材挡板，11-靶材，12-靶材支座，13-玻璃挡板，14-显示屏，15-第二垫片，16-第一微型螺丝，17-第一硅片夹，18-硅片，19-第二硅片夹，20-第二微型螺丝，21-第一垫片。

具体实施方式