[实用新型]一种真空镀膜溅射靶的测温装置

权利要求书

1.一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，包括真空腔体室（1）、真空腔体室（1）及红外测温探测头（2），所述真空腔体室（1）内设有溅射靶放置台（8），所述红外测温探测头（2）上设有探测头旋转装置，所述溅射靶放置台（8）底部设有柔性支撑管，所述柔性支撑管上设有连接支架，并通过连接支架与探测头旋转装置相连，并通过探测头旋转装置实现红外测温探测头（2）对溅射靶放置台（8）上的靶材进行温度检测。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述连接支架包括第一支架（9）、第二支架（11）、第三支架（12）及第四支架（14），所述第一支架（9）与第二支架（11）对称设置，且第一支架（9）与第二支架（11）之间活动连接，所述第三支架（12）与第四支架（14）对称设置，且第三支架（12）与第四支架（14）之间活动连接，所述第一支架（9）与第四支架（14）之间固定连接，所述第二支架（11）与第三支架（12）之间固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述柔性支撑管包括上金属支撑棒（21）、中间波纹管（10）及下金属支撑棒（22），所述上金属支撑棒（21）一端与溅射靶放置台（8）固定连接，所述上金属支撑棒（21）另一端与中间波纹管（10）的一端固定连接，所述中间波纹管（10）的另一端与下金属支撑棒（22）的一端固定连接，所述下金属支撑棒（22）的另一端固定在真空腔体室（1）底部。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述第一支架（9）与第四支架（14）固定在上金属支撑棒（21）上，所述第二支架（11）与第三支架（12）固定在下金属支撑棒（22）上。

5.根据权利要求2所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述探测头旋转装置包括挡板（5）、金属棒（7）、柔性钢丝（13）及电机，所述挡板（5）一端设有固定帽（4），所述金属棒（7）一端穿过挡板（5）及固定帽（4），并通过紧固螺钉（6）固定在固定帽（4）上，所述金属棒（7）另一端穿设在第四支架（14）上，且其末端与柔性钢丝（13）固定连接，所述柔性钢丝（13）穿过第三支架（12），且其末端与真空腔体室（1）外部的电机传动连接。

6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述红外测温探测头（2）穿设在挡板（5）上，并通过第一拧紧螺栓（16）及第二拧紧螺栓（17）固定。

7.根据权利要求5所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述挡板（5）底部在位于红外测温探测头（2）的四周设有传感器保护罩（3）。

8.根据权利要求5所述的一种真空镀膜溅射靶的测温装置，其特征在于，所述金属棒（7）上设有夹板（19），所述柔性钢丝（13）通过第二紧固螺钉（20）固定在夹板（19）上。