[实用新型]一种可调控双折射的光纤光栅制备装置有效

专利信息
申请号: 202120291998.0 申请日: 2021-02-02
公开(公告)号: CN214174668U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 许百杰;何俊;徐锡镇;王义平 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 刘爱珍
地址: 518060 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 调控 双折射 光纤 光栅 制备 装置
【权利要求书】:

1.一种可调控双折射的光纤光栅制备装置,其特征在于,包括:激光加工光路系统、位移平台;所述激光加工光路系统包括激光器装置、激光整形装置、和控制装置;

所述激光整形装置用于对激光器装置发射的激光进行整形处理,经整形处理的激光聚焦到光纤上;所述控制装置与激光整形装置相连接,用于控制并调整激光整形装置;

位移平台用于带动光纤移动,以便使激光在光纤上诱导形成折射率调制区域,从而形成光纤光栅。

2.如权利要求1所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,所述激光整形装置为狭缝整形装置、空间光调制器、或双柱透镜。

3.如权利要求1所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,所述激光器装置包括飞秒激光器、倍频器、光学组件、双色镜及CCD。

4.如权利要求3所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,所述光学组件包括衰减器和控制激光的快门装置;所述衰减器包括半波片和格兰棱镜。

5.如权利要求1所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,其还包括激光聚焦装置,经整形处理的激光经过激光聚焦装置后聚焦到光纤上。

6.如权利要求1所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,其还包括偏振分析解调装置,所述偏振分析解调装置用于测试光纤光栅的双折射,并根据双折射数据的反馈值与预设定目标值之间的差异获得激光整形装置所需要调整参数。

7.如权利要求6所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,所述控制装置与激光整形装置相连接并根据调整参数来调整激光整形装置。

8.如权利要求6所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,偏振分析解调装置包括可调谐激光器,偏振分析仪,光功率计和智能终端;

所述可调谐激光器与偏振分析仪的输入端口连接,所述偏振分析仪的输出端口与光纤光栅第一端连接;所述光纤光栅的第二端与光功率计连接;所述偏振分析仪、光功率计均与智能终端连接;

所述智能终端根据光功率计探测到的光纤光栅在不同波长下的功率值大小得到两个偏振态中心波长的差异,计算光纤光栅的双折射;

所述智能终端根据计算得到的双折射数据的反馈值与预设定目标值之间的差异与激光整形装置的调整参数之间的对应关系,获得激光整形装置所需要调整参数。

9.如权利要求8所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,所述智能终端中预存有双折射数据的反馈值与预设定目标值之间的差异值与激光整形装置的调整参数之间的对应关系相应数据。

10.如权利要求8所述的光纤光栅制备装置,其特征在于,所述智能终端与控制装置相连接。

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