[实用新型]一种可调控双折射的光纤光栅制备装置有效

专利信息
申请号: 202120291998.0 申请日: 2021-02-02
公开(公告)号: CN214174668U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 许百杰;何俊;徐锡镇;王义平 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 刘爱珍
地址: 518060 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 调控 双折射 光纤 光栅 制备 装置
【说明书】:

实用新型提供的一种可调控双折射的光纤光栅制备装置,包括:激光加工光路系统、位移平台;所述激光加工光路系统包括激光器装置、激光整形装置、和控制装置;所述激光整形装置用于对激光器装置发射的激光进行整形处理,经整形处理的激光聚焦到光纤上;所述控制装置与激光整形装置相连接,用于控制并调整激光整形装置;位移平台用于带动光纤移动,以便使激光在光纤上诱导形成折射率调制区域,从而形成光纤光栅。

技术领域

本实用新型涉及光纤光栅制备技术领域,尤其涉及一种可调控双折射的光纤光栅制备装置。

背景技术

光纤光栅具有抗电磁干扰能力强、耐腐蚀、体积小、能大规模组网等一系列优异性能,是光纤通信和光纤传感等领域中的重要器件。

偏振相关损耗是指输入光信号在所有偏振状态下其传输功率的最大变化,主要用来衡量光器件或光学系统对传输光偏振态的敏感程度,是光纤光栅的一个重要参数。在光纤通信领域中,过高的偏振相关损耗会增加误码率;在光纤传感领域中,偏振相关损耗会影响光纤光栅的反射光谱稳定性,从而影响光栅的测量精度;光纤光栅的偏振相关损耗主要是由双折射引起,当激光诱导的折射率调制区并非圆对称时,光纤光栅的双折射会大大增加。

利用基于紫外连续激光的相位掩膜板法在光纤纤芯写制光纤光栅,形成的折射率调制区完全覆盖纤芯,可以获得较低的双折射系数,从而降低了光纤光栅的偏振相关损耗。然而,基于紫外连续激光制备的光纤光栅需要对光纤进行增敏处理,获得的光栅通常是I型光栅,不能在高温环境下长时间稳定工作,在高温传感领域受到很大限制。利用飞秒激光相位掩膜板法可以制备Ⅱ型光栅,大大提高光纤光栅的耐受温度,并且无需对光纤进行增敏处理。但是,写制光纤光栅波分复用阵列时需要不同周期的相位掩膜板,灵活性大大下降。利用飞秒激光逐点法可以灵活地制备不同周期的耐高温光纤光栅。然而,飞秒激光经物镜聚焦后,在光纤纤芯截面形成椭圆形聚焦点,并非是圆形聚焦点,从而引发双折射现象,导致偏振相关损耗增加,进而影响光纤光栅在光纤传感和光纤通信中的应用。

另外,在某些特定场景中,高双折射光纤光栅也具有重大的应用价值。随着科技的发展以及5G技术的广泛部署应用,人工智能的时代正在来临。智能机器人可以在一些极端环境下代替人工工作,避免一些危险事情发生,因此具有重大的发展价值。

高双折射光纤光栅传感器可应用在智能机器人手指作为压力传感器,当机器人手指感受到不同压力时,传感器都能得到实时的感知与反馈。当沿着高双折射光纤光栅传感器不同方向施加外界压力时,传感器会有不同的光谱响应,通过光谱仪或者偏振分析解调系统,可以解调出高双折射光纤光栅偏振光谱的变化,从而获得不同方向的横向压力响应。高双折射光纤光栅传感器是一种优良的横向压力传感器。

实用新型内容

鉴于上述需求,本实用新型的目的在于提供一种可调控双折射光纤光栅的制备装置,旨在实现对光纤光栅双折射的调控,以便获得所需要的高双折射光纤光栅或低双折射光纤光栅。

本申请提供的一种可调控双折射的光纤光栅制备装置,包括:激光加工光路系统、位移平台;所述激光加工光路系统包括激光器装置、激光整形装置、和控制装置;

所述激光整形装置用于对激光器装置发射的激光进行整形处理,经整形处理的激光聚焦到光纤上;所述控制装置与激光整形装置相连接,用于控制并调整激光整形装置;

位移平台用于带动光纤移动,以便使激光在光纤上诱导形成折射率调制区域,从而形成光纤光栅。

本申请所提供的一种光纤光栅制备装置,所述激光整形装置为狭缝整形装置、空间光调制器、或双柱透镜。

本申请所提供的一种光纤光栅制备装置,所述激光器装置包括飞秒激光器、倍频器、光学组件、双色镜及CCD。

本申请所提供的一种光纤光栅制备装置,所述光学组件包括衰减器和控制激光的快门装置;所述衰减器包括半波片和格兰棱镜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学,未经深圳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120291998.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top