[实用新型]配合方阻检测的硅片吸取设备

权利要求书

1.一种配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，包括：设备机架、固定在所述设备机架上的X轴运动模组、Y轴运动模组、Z轴运动模组和真空吸盘，所述Y轴运动模组被所述X轴运动模组驱动，所述Z轴运动模组被所述Y轴运动模组驱动，所述X轴运动模组、所述Y轴运动模组和所述Z轴运动模组和三者两两互相垂直；

所述真空吸盘包括吸取块和连接块，所述吸取块和硅片相接触，所述连接块和所述吸取块一体成型，所述连接块和所述Z轴运动模组固定连接；所述吸取块与硅片接触的表面开设有至少两个吸嘴，所述吸取块的内部开设有通往所述连接块且连接外界的连接气路，所述连接气路与所述吸嘴相连通。

2.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述连接块的厚度大于所述吸取块的厚度。

3.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述吸取块远离所述连接块的一端设有引导块，所述引导块靠近所述连接块的一端的厚度大于所述引导块远离所述连接块的一端的厚度。

4.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述吸嘴的数量为4个，4个所述吸嘴成阵列分布，4个所述吸嘴分布在所述吸取块的四个角。

5.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，还包括支撑架，所述支撑架设置在所述设备机架上；所述支撑架和所述X轴运动模组互相平行，所述Y轴运动模组和所述支撑架滑动配合。

6.如权利要求5所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述Y轴运动模组通过滑动辅助机构和所述支撑架滑动配合，所述滑动辅助机构包括滑轨和滑块；所述滑轨固定在所述设备机架上，所述Y轴运动模组的底部通过所述滑块和所述滑轨滑动配合。

7.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述设备机架的底部设有支撑脚，所述支撑脚包括连接杆和支撑盘；所述连接杆的一端和所述设备机架的底部固定连接，所述连接杆的另一端和所述支撑盘固定连接，所述连接杆垂直于所述支撑盘。

8.如权利要求7所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述支撑脚的数量为4个，4个所述支撑脚成阵列分布，4个所述支撑脚分布在设备机架的四个角；所述连接杆和所述支撑盘一体成型。

9.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述设备机架的前端和后端各设有一个固定安装板，所述固定安装板包括第一安装板和第二安装板，所述第一安装板和所述第二安装板互相垂直，所述第一安装板和所述第二安装板两者成∟型，所述第一安装板和所述设备机架固定连接，所述第二安装板上设有若干设备固定孔。