[实用新型]一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机

权利要求书

1.一种刻蚀机的清洗机构，用于硅片清洗，其特征在于，所述清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩；

所述滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，所述上滚轮和所述下滚轮之间形成硅片传输通道；

所述喷淋管用于向所述硅片表面喷射清洗液；

靠近所述清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组，所述压水滚轮组用于将所述硅片表面残留液体挤压干净；沿着所述硅片传输通道，在所述压水滚轮组两侧形成所述压水滚轮组的进料区域和出料区域；

所述喷淋罩设置于所述硅片传输通道上方并罩住所述压水滚轮组，所述喷淋罩设置有导流结构，所述导流结构用于将喷溅的清洗液引导至所述压水滚轮组的进料区域。

2.根据权利要求1所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述滚轮组还包括支撑滚轮组，所述喷淋罩至少罩住最靠近所述压水滚轮组的支撑滚轮组。

3.根据权利要求1所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述喷淋罩包括至少三个挡板和顶板；

至少三个所述挡板与所述顶板相互连接形成所述喷淋罩；

所述顶板设置在所述挡板远离所述硅片传输通道的方向，并且相对于所述硅片传输通道倾斜布置，以形成所述导流结构。

4.根据权利要求3所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述挡板包括第一端板、第二端板、第一侧板和第二侧板；

沿所述压水滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，沿垂直于所述压水滚轮组的轴向，所述第一侧板和所述第二侧板相对设置，所述第一侧板和第二侧板连接所述第一端板和所述第二端板形成四方罩体；所述顶板与所述挡板相抵接；

所述第二侧板的高度高于所述第一侧板的高度，所述第一端板、第二端板与第一侧板连接的一端的高度与第一侧板的高度相同，所述第一端板、第二端板与第二侧板连接的一端的高度与第二侧板的高度相同；

其中，所述第二侧板靠近所述清洗机构的出料端设置。

5.根据权利要求2所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述喷淋罩包括第一端板板、第二端板、弧形盖板和导流板；

沿所述支撑滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，所述弧形盖板连接所述第一端板和所述第二端板，形成所述喷淋罩；

所述导流板固定于所述弧形盖板的内壁形成所述导流结构。

6.根据权利要求5所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述导流挡板以第一预设方向固定于所述弧形盖板的内壁的第一预设位置；

所述第一预设方向为所述导流板延伸指向所述压水滚轮组出料区域的方向，所述第一预设位置为所述弧形盖板的顶部与所述弧形盖板靠近所述压水滚轮组的进料方向的最低点之间的位置。

7.根据权利要求5所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述导流挡板以第二预设方向固定于所述弧形盖板的内壁的第二预设位置；

所述第二预设方向为所述导流板延伸指向所述压水滚轮组进料区域的方向，所述第二预设位置为所述弧形盖板的顶部与所述弧形盖板靠近所述压水滚轮组的出料方向的最低点之间的位置。

8.根据权利要求1所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述喷淋管包括第一喷淋管和第二喷淋管；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，在所述硅片传输通道下方设置有所述第一喷淋管，所述第一喷淋管用于朝进料方向向所述硅片下表面喷射清洗液；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，所述硅片传输通道上方设置有所述第二喷淋管，所述第二喷淋管用于朝进料方向向所述硅片上表面喷射清洗液。

9.一种刻蚀机，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的刻蚀机的清洗机构。

10.根据权利要求9所述的刻蚀机，其特征在于，所述刻蚀机还包括烘干槽，所述烘干槽设置于所述压水滚轮组的出料区域。