[实用新型]一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机

说明书

本实用新型提供了一种刻蚀机的清洗机构和刻蚀机，用于硅片清洗，清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩；滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，上滚轮和下滚轮之间形成硅片传输通道；喷淋管用于向硅片表面喷射清洗液；靠近清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组，用于将硅片表面残留液体挤压干净；沿着硅片传输通道，在压水滚轮组两侧形成进料区域和出料区域；喷淋罩设置于硅片传输通道上方并罩住压水滚轮组，喷淋罩设置有导流结构，用于将喷溅的清洗液引导至压水滚轮组的进料区域。本实用新型实施例提供的清洗机构，可以避免液体残留在硅片上，可以提升从压水滚轮组出料区域送出的硅片的干净程度，有助于提升硅片质量。

技术领域

本实用新型涉及太阳能光伏电池技术领域，特别是涉及一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机。

背景技术

在太阳能光伏电池的生产制造中，对硅片的清洗是一道必不可少的工序。

目前，在实际生产过程中，为了避免清洗过程中液体的溅射，在清洗机构位置安装有喷淋保护罩，以防止喷射出来的液体四处溅射。

然而，现有的喷淋保护罩虽然可以实现液体向外部的溅射，但是，在喷淋保护罩内部，溅射的液体仍会反弹到压水滚轮组出料位置的干净硅片上，导致液体残留，降低了硅片质量。

实用新型内容

本实用新型提供一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机，以解决现有硅片清洗工序中，溅射的液体仍会反弹到压水滚轮组出料位置的干净硅片上，导致液体残留，降低了硅片质量的问题。

本实用新型提供了一种刻蚀机的清洗机构，用于硅片清洗，所述清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩；

所述滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，所述上滚轮和所述下滚轮之间形成硅片传输通道；

所述喷淋管用于向所述硅片表面喷射清洗液；

靠近所述清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组，所述压水滚轮组用于将所述硅片表面残留液体挤压干净；沿着所述硅片传输通道，在所述压水滚轮组两侧形成所述压水滚轮组的进料区域和出料区域；

所述喷淋罩设置于所述硅片传输通道上方并罩住所述压水滚轮组，所述喷淋罩设置有导流结构，所述导流结构用于将喷溅的清洗液引导至所述压水滚轮组的进料区域。

可选地，所述滚轮组还包括支撑滚轮组，所述喷淋罩至少罩住最靠近所述压水滚轮组的支撑滚轮组。

可选地，所述喷淋罩包括至少三个挡板和顶板；

至少三个所述挡板与所述顶板相互连接形成所述喷淋罩；

所述顶板设置在所述挡板远离所述硅片传输通道的方向，并且相对于所述硅片传输通道倾斜布置，以形成所述导流结构。

可选地，所述挡板包括第一端板、第二端板、第一侧板和第二侧板；

沿所述压水滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，沿垂直于所述压水滚轮组的轴向，所述第一侧板和所述第二侧板相对设置，所述第一侧板和第二侧板连接所述第一端板和所述第二端板形成四方罩体；所述顶板与所述挡板相抵接；

所述第二侧板的高度高于所述第一侧板的高度，所述第一端板、第二端板与第一侧板连接的一端的高度与第一侧板的高度相同，所述第一端板、第二端板与第二侧板连接的一端的高度与第二侧板的高度相同；

其中，所述第二侧板靠近所述清洗机构的出料端设置。

可选地，所述喷淋罩包括第一端板板、第二端板、弧形盖板和导流板；

沿所述支撑滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，所述弧形盖板连接所述第一端板和所述第二端板，形成所述喷淋罩；