[实用新型]一种硅片上下料系统有效
申请号: | 202120382806.7 | 申请日: | 2021-02-20 |
公开(公告)号: | CN214542175U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 沈晓琪;林佳继;朱斌;强嘉杰 | 申请(专利权)人: | 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/677;H01L21/683 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 上下 系统 | ||
1.一种硅片上下料系统,其特征在于:包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置,所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构,所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构,夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面,所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动,所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构,所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统,所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统。
2.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统,其特征在于:所述上料导片组件和下料导片组件结构相同,所述上料导片组件和下料导片组件分别设有对称分布的两组,所述上料导片组件包括上料来料对接输送机构、上料缓存输送机构、上料花篮升降机构、上料花篮输送机构、上料硅片输送机构、上料硅片缓存机构以及上料接片机构,上料花篮输送机构位于上料花篮升降机构下侧,所述下料导片组件包括下料来料对接输送机构、下料缓存输送机构、下料花篮升降机构、下料花篮输送机构、下料硅片输送机构、下料硅片缓存机构以及下料接片机构,下料花篮输送机构位于下料花篮升降机构下侧,横移输送机构分别与上料花篮输送机构、下料花篮输送机构连接,花篮经上料花篮输送机构、横移输送机构以及下料花篮输送机构在上料导片组件和下料导片组件间流转。
3.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统,其特征在于:所述夹爪分合机构包括分片传动装置、吸盘调整机构以及吸盘旋转机构,所述吸盘调整机构包括吸盘吸取装置和控制吸盘吸取装置错位移动的调整装置,所述吸盘旋转机构包括吸盘吸片装置和控制吸盘吸片装置转动的旋转装置,六轴机器人控制夹爪分合机构的移动,所述分片传动装置通过吸盘调整机构与吸盘旋转机构控制硅片的移动,所述吸盘吸取装置和吸盘吸片装置控制硅片的吸取分合,所述旋转装置控制硅片翻面。
4.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统,其特征在于:所述上料搬运机构和下料搬运机构结构相同,所述上料搬运机构包括上料定位移动组件、上料硅片顶升组件、上料硅片规整组件以及上料离子吹风组件,所述下料搬运机构包括下料定位移动组件、下料硅片顶升组件、下料硅片规整组件以及下料离子吹风组件。
5.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统,其特征在于:所述石英舟流转机构包括主机对接输送组件、夹爪组件和控制夹爪组件移动的移动模组组件,主机对接输送组件承载若干石英舟,移动模组组件控制夹爪组件夹持石英舟在主机对接输送组件和上料定位移动组件间流转。
6.根据权利要求4所述的一种硅片上下料系统,其特征在于:所述上料定位移动组件包括动力组件和两组承托组件,所述动力组件驱动两组承托组件同步往返运动,所述承托组件包括支架组件、承载组件以及翻转组件,所述支架组件对承载组件进行支撑,所述翻转组件控制承载组件相对于支架组件进行翻转,所述承载组件包括限位结构、压块结构和夹紧结构,所述压块结构将石英舟固定,所述夹紧结构将石英舟夹紧,所述限位结构对石英舟内硅片进行支撑和限位,所述上料定位移动组件还包括位置控制装置,所述位置控制装置包括三组检测传感器,承托组件固设有对应的挡片,所述三组检测传感器分别位于动力组件的两端以及承托组件的原点位置,通过三组检测传感器和挡片的配合控制上料定位移动组件的移动行程以及上料定位移动组件的原点检测,所述上料硅片顶升组件位于承托组件的原点位置,所述上料硅片顶升组件包括顶升移动组件和顶齿组件,顶升移动组件驱动顶齿组件上下往返移动,位于原点位置的一组上料定位移动组件翻转后石英舟与顶齿组件处于竖直方向的共线。
7.根据权利要求4所述的一种硅片上下料系统,其特征在于:所述上料硅片规整组件包括风刀机构和两组对称设置的规整支架,所述规整支架位于动力组件的两侧,所述规整支架包括规整齿,两组规整支架的规整齿相对设置,两组规整齿通过气缸实现同步的同向/反向运动,所述风刀机构安装在其中一组规整支架上,所述风刀机构包括吹气组件,通过吹气组件便于对硅片进行分片,所述上料离子吹风组件位于动力组件一端,对硅片除尘除静电,便于硅片的后续处理。
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