[实用新型]湿刻装置

权利要求书

1.一种湿刻装置，其特征在于，包括：

酸槽(110)，用于盛装腐蚀液；

循环组件，用于驱动所述腐蚀液在所述酸槽(110)内循环流动；及

夹具(120)，位于所述酸槽(110)内，具有用于承装晶片的安装腔(121)，所述夹具(120)被构造为受控在所述酸槽(110)内移动。

2.根据权利要求1所述的湿刻装置，其特征在于，还包括提拉组件(130)，所述提拉组件(130)与所述夹具(120)连接，被构造为驱动所述夹具(120)沿所述酸槽(110)的槽深方向作升降运动。

3.根据权利要求2所述的湿刻装置，其特征在于，位于所述安装腔(121)内的所述晶片的轴向呈水平布置；

所述湿刻装置还包括旋转组件(140)，所述旋转组件(140)包括受控自转的旋转轴(141)，所述旋转轴(141)位于所述酸槽(110)内，且位于所述夹具(120)的下方，所述旋转轴(141)沿所述晶片的轴向布置；

当所述提拉组件(130)驱动所述夹具(120)下降至预设深度时，所述旋转轴(141)与所述晶片抵接，且能够在自转时带动所述晶片轴向旋转预设角度。

4.根据权利要求3所述的湿刻装置，其特征在于，所述提拉组件(130)还被构造为驱动所述夹具(120)在所述预设深度停留预设时间，以使得所述晶片在所述旋转轴(141)的带动下旋转预设角度。

5.根据权利要求3所述的湿刻装置，其特征在于，所述酸槽(110)内设置有定位部(115)，所述定位部(115)布置于所述预设深度处，当所述提拉组件(130)驱动所述夹具(120)下降至所述预设深度时，所述夹具(120)与所述定位部(115)相抵。

6.根据权利要求3所述的湿刻装置，其特征在于，所述酸槽(110)包括外槽(111)和框架(112)，所述框架(112)位于所述外槽(111)内，且与所述外槽(111)连通；

所述夹具(120)位于所述框架(112)内。

7.根据权利要求6所述的湿刻装置，其特征在于，所述外槽(111)的外壁上设置有背离所述外槽(111)槽底延伸的安装板(113)，所述提拉组件(130)和所述旋转组件(140)均连接于所述安装板(113)。

8.根据权利要求7所述的湿刻装置，其特征在于，所述安装板(113)上具有一导向槽(114)，所述导向槽(114)沿所述外槽(111)的槽深方向延伸；

所述提拉组件(130)包括第一驱动件和连接杆(131)，所述连接杆(131)穿设所述导向槽(114)，并连接所述第一驱动件和所述夹具(120)；

所述连接杆(131)在所述第一驱动件的驱动下沿所述导向槽(114)的延伸方向移动时，带动所述夹具(120)作升降运动。

9.根据权利要求8所述的湿刻装置，其特征在于，所述安装板(113)上具有第一安装孔，所述第一安装孔相比所述导向槽(114)靠近所述外槽(111)的槽底布置，所述框架(112)具有第二安装孔，所述旋转轴(141)可转动地安装于所述第二安装孔；

所述旋转组件(140)还包括第二驱动件、传动杆(142)和传动齿轮组(143)，所述传动杆(142)穿设所述第一安装孔，并连接所述第二驱动件和所述传动齿轮组(143)，所述传动齿轮组(143)与所述旋转轴(141)连接；

所述传动齿轮组(143)用于将所述传动杆(142)在所述第二驱动件的驱动下自转时产生的转矩传递至所述旋转轴(141)。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的湿刻装置，其特征在于，还包括加热件(150)，所述加热件(150)设于所述酸槽(110)的槽底。