[实用新型]掩膜版

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括多组掩膜图形，以及位于所述掩膜版边缘和相邻两组所述掩膜图形之间的对准标记单元；

其中，每组所述掩膜图形用于不同膜层的光刻工艺，所述对准标记单元包括分别与其相邻的所述掩膜图形对应的子标记单元。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，每组所述掩膜图形的周围设置有遮光带。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述对准标记单元设置于所述遮光带上。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述子标记单元包括分别对应光刻机不同传感器的多排传感器标记。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，每排所述传感器标记沿着其相邻的所述掩膜图形的边设置。

6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述传感器包括透射图像传感器和透镜干涉仪。

7.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述传感器标记用于测量对应的所述掩膜图形的畸变量，以及用于实现所述光刻机和所述掩膜版的对准。

8.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述子标记单元中，每排所述传感器标记中的标记数量为多个。