[实用新型]一种光罩盒用载台结构

说明书

本实用新型公开了一种光罩盒用载台结构，包括本体、吹气装置、真空装置；本体包括容纳腔以放置光罩盒，容纳腔设置为顶部敞口；容纳腔的侧壁开设有通气孔，吹气装置通过通气孔与容纳腔的腔体联通；容纳腔的与开设所述通气孔的侧壁相对的侧壁开设真空孔，真空装置通过真空孔与容纳腔的腔体联通；容纳腔内未放置光罩盒时，吹气装置、真空装置同时打开以持续清洁容纳腔，因此，实现了自主自动清洁，且清洁效果更好，还可以减少或者不再需要定时人工清洁，进一步优化了清洁流程，节省了清洁时间。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件制造设备领域，尤其涉及一种光罩盒用载台结构。

背景技术

目前，芯片已被广泛的应用于生产和生活的各个领域，而芯片是通过半导体技术对晶圆进行加工制备的。其中，核心工艺之一是光刻工艺，即，将光罩上的图案通过曝光等技术手段转移至晶圆或待图形化的基底上。因此，如果光罩表面存在任何污染物，比如灰尘颗粒，都会导致污染物被投射到晶圆上，进而导致产品缺陷。一般对有缺陷的产品会进行重新加工，如果缺陷比较严重，还有可能导致产品的报废，但无论是重新加工还是产品报废都较大的降低了产品良率，提高了生产成本，因此，需要尽量较少可能导致光罩表面污染物的污染源。

虽然半导体的加工一般都是在具有一定洁净度的洁净间进行，但依然无法完全杜绝灰尘颗粒等污染物的产生，因此，半导体工厂依然需要经常对污染源进行分析、排查和预防。通过对光罩传送路径的分析，光罩盒的载台(loadpod)上的灰尘颗粒是光罩污染源的重要来源之一，因此，加强对载台的清洁是目前行业内的普遍共识，目前，对载台的清洁方式主要采用定时人工清洁，即，在固定的时间，由作业人员手动对载台进行擦拭清洁。为了安全起见，需要进行人工清洁时，必须对设备进行暂停，因此，在产能要求较大的情况下，人工清洁就可能会占用生产时间，造成产能的损失，甚至无法达产，另外，人工清洁还可能存在遗漏或者不认真清洁的情况，因此，如何节省清洁时间且提高清洁效果，成为本领域需要重点研究的技术问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种光罩盒用载台结构，能实现载台的自主自动的清洁，并节省清洁时间且提高清洁效果。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的载台结构，包括本体、吹气装置、真空装置；

所述本体包括容纳腔以放置所述光罩盒，所述容纳腔设置为顶部敞口；

所述容纳腔的侧壁开设有通气孔，所述吹气装置通过所述通气孔与所述容纳腔的腔体联通；

所述容纳腔的与开设所述通气孔的侧壁相对的侧壁开设真空孔，所述真空装置通过所述真空孔与所述容纳腔的腔体联通；

当所述容纳腔未放置所述光罩盒时，所述吹气装置、所述真空装置同时打开以清洁所述容纳腔。

较佳地，当所述容纳腔放置所述光罩盒时，所述吹气装置、所述真空装置关闭以停止清洁所述容纳腔。

较佳地，所述本体还包括感应装置；

所述感应装置安装于所述容纳腔的腔体内以感知所述光罩盒；

所述容纳腔通过所述感应装置未感知到所述光罩盒时，所述吹气装置、所述真空装置打开以清洁所述容纳腔；

所述容纳腔通过所述感应装置感知到所述光罩盒时，所述吹气装置、所述真空装置关闭以停止清洁所述容纳腔。

较佳地，所述感应装置包括底部传感器和盒体传感器；

所述底部传感器安装于所述容纳腔的底面以感知所述光罩盒的底面；

所述盒体传感器安装于所述容纳腔的侧壁以感知所述光罩盒的侧壁。

较佳地，所述底部传感器的数量为至少两个。

较佳地，所述底部传感器的数量为两个，两个所述底部传感器以中心对称的位置关系安装于所述容纳腔的底面。