[实用新型]一种新型干法刻蚀设备

权利要求书

1.一种新型干法刻蚀设备，包括用于放置至少一个被刻蚀件(3)的托盘(1)、用于对所述至少一个被刻蚀件(3)进行刻蚀的刻蚀单元、收容所述托盘(1)的壳体以及与所述壳体相连接的真空发生器，其特征在于：

所述托盘(1)上安装有至少一组用于限定所述至少一个被刻蚀件(3)的限位销(2)，所述托盘(1)上表面设置有至少一组限位孔(11)，所述限位销(2)与所述限位孔(11)插接，所述限位孔(11)内壁左右两端上侧均开有插口(12)，所述插口(12)上端贯通所述托盘(1)，所述限位孔(11)内壁中间开有一圈环形槽(13)，所述插口(12)下部贯通所述环形槽(13)，所述限位销(2)左右两端下侧均固定有侧块(21)，所述侧块(21)与所述插口(12)一一对应滑动连接，所述侧块(21)下端开有收入槽(22)，所述收入槽(22)内部滑动连接有滑杆(24)，所述滑杆(24)下端延伸出所述收入槽(22)并固定有撑板(26)，所述撑板(26)下端与所述环形槽(13)槽底相接触，所述侧块(21)下端且位于所述收入槽(22)外侧固定有挡环(23)，所述挡环(23)位于所述滑杆(24)外侧，所述挡环(23)下端与所述撑板(26)上端之间固定有弹簧(25)，所述弹簧(25)位于所述滑杆(24)外侧。

2.如权利要求1所述的一种新型干法刻蚀设备，其特征在于：每组所述限位销(2)均至少有三个，每组所述限位销(2)与每组所述限位孔(11)相对应。

3.如权利要求1所述的一种新型干法刻蚀设备，其特征在于：所述侧块(21)沿着所述插口(12)滑入所述环形槽(13)内部与所述环形槽(13)活动连接。

4.如权利要求1所述的一种新型干法刻蚀设备，其特征在于：所述滑杆(24)上端固定有挡板(29)，所述挡板(29)与所述收入槽(22)滑动连接。

5.如权利要求4所述的一种新型干法刻蚀设备，其特征在于：所述挡板(29)的外径大于所述挡环(23)的内径。

6.如权利要求1所述的一种新型干法刻蚀设备，其特征在于：所述撑板(26)下端开有滚动槽(27)，所述滚动槽(27)内部滚动连接有钢珠(28)，所述环形槽(13)槽底开有一圈环形滑道(14)，所述钢珠(28)与所述环形滑道(14)滚动连接。