[实用新型]一种用于化学气相沉积装置的移动载具有效
申请号: | 202120424629.4 | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN214422750U | 公开(公告)日: | 2021-10-19 |
发明(设计)人: | 张亮;王薇;汪小知 | 申请(专利权)人: | 杭州英希捷宜合信息技术发展有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人: | 沈相权 |
地址: | 浙江省杭州市萧山区萧山经济*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 沉积 装置 移动 | ||
本实用新型涉及一种用于化学气相沉积装置的移动载具,所属化学气相沉积设备技术领域,包括石英管,所述的石英管内设有与石英管相密封式插嵌的磁铁,所述的磁铁前端设有与石英管相套接的石英载片,所述的石英管的外壁设有与磁铁上下端相磁性吸合的铁环,所述的铁环与石英管相嵌套连接,所述的铁环下端设有电动滑轨,所述的电动滑轨与铁环间设有与电动滑轨相活动式插嵌连接的连接滑块。具有结构简单、兼容性好、稳定性高和使用效果好的特点。解决了化学气相沉积设备外接连通的问题。在不破坏化学气相沉积装置石英管中的真空环境的前提下,实现匀速或变速移动真空腔中样品。
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域,具体涉及一种用于化学气相沉积装置的移动载具。
背景技术
石墨烯(Graphene)是由sp2杂化的碳原子以蜂窝状晶格结构排列的一种 0.335nm 单层厚度的新型二维碳材料。这种新型二维(2D)结构石墨烯材料的发现与其拥有特异的物理化学性质引发了科研界和产业界的研究热潮。然而, 在对碳纳米管的研究实验中,偶然间发现了一种类似花瓣状的垂直生长在衬底上的三维(3D)碳纳米材料, 这种材料被称作为垂直直立的石墨烯纳米墙, 简称垂直石墨烯。相比于二维的石墨烯薄膜,三维结构GNWs 拥有极其稳定的化学性质、超强的机械强度和更大的比表面积, 以及拥有与石墨烯薄膜相同特征的高导电率和电子亲和力。基于快速发展的太阳能收集技术, 人们可以将太阳光能转化为热能, 并且由于其高转换效率和低损耗而受到了广泛的关注。
目前石墨烯的合成多数利用化学气相沉积法。随着化学气相沉积工艺的发展,工艺精度随之提升,对设备的要求也越来越高。在石墨烯制备工艺中,经常涉及到温度梯度工艺、快速升温工艺、快速降温工艺等,这在普通的化学气相沉积设备中难以实现,而定制新设备的成本较高,针对不同工艺定制若干不同结构的设备显然不合理,这就需要用到了化学气相沉积设备的外接装置。
发明内容
本实用新型主要解决现有技术中存在兼容性差、稳定性低和使用效果差的不足,提供了一种用于化学气相沉积装置的移动载具,其具有结构简单、兼容性好、稳定性高和使用效果好的特点。解决了化学气相沉积设备外接连通的问题。在不破坏化学气相沉积装置石英管中的真空环境的前提下,实现匀速或变速移动真空腔中样品。
本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种用于化学气相沉积装置的移动载具,包括石英管,所述的石英管内设有与石英管相密封式插嵌的磁铁,所述的磁铁前端设有与石英管相套接的石英载片,所述的石英管的外壁设有与磁铁上下端相磁性吸合的铁环,所述的铁环与石英管相嵌套连接,所述的铁环下端设有电动滑轨,所述的电动滑轨与铁环间设有与电动滑轨相活动式插嵌连接的连接滑块。
作为优选,所述的电动滑轨包括与连接滑块相螺纹式套接的滑动丝杆。
作为优选,所述的滑动丝杆两侧均设有与连接滑块相支撑式套接的导向杆。
作为优选,所述的连接滑块与铁环间设有若干与连接滑块相嵌套连接的压紧组件。
作为优选,所述的压紧组件包括弹簧,所述的弹簧与铁环间设有与弹簧相卡嵌的钢球。
作为优选,所述的石英载片呈长为60厘米,宽为5厘米的长方形结构。
本实用新型能够达到如下效果:
本实用新型提供了一种用于化学气相沉积装置的移动载具,与现有技术相比较,具有结构简单、兼容性好、稳定性高和使用效果好的特点。解决了化学气相沉积设备外接连通的问题。在不破坏化学气相沉积装置石英管中的真空环境的前提下,实现匀速或变速移动真空腔中样品。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型的侧视结构示意图。
图3是本实用新型中的压紧组件的结构示意图。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的