[实用新型]一种光刻设备涂胶组件有效

专利信息
申请号: 202120466534.9 申请日: 2021-03-03
公开(公告)号: CN215088463U 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 刘健 申请(专利权)人: 上海欧勋机电工程有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10;B05C11/02;B05C13/02
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 代理人: 刘颖
地址: 202150 上海市崇明区长兴镇潘园公*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 设备 涂胶 组件
【说明书】:

实用新型提供了一种光刻设备涂胶组件,本实用新型涉及光刻设备技术领域,光刻设备涂胶组件,包括工作框,工作框左右两侧均开有与其相通的圆孔,工作框内固定有工作台,工作台上表面左右方均固定有立板,立板表面均开有左右贯通的孔洞,孔洞内均插入有螺杆,螺杆内外两端均穿出孔洞,且螺杆内端均固定有夹板,夹板底部均安装有两块呈左右分布的刮板,刮板底部与工作台上表面相接触,螺杆外端穿出圆孔;工作台表面开有若干个上下贯通的通孔;本实用新型的有益效果在于:有利于物件表面涂胶均匀,使得物件涂胶效果佳,可对胶水进行收集,避免胶水浪费,可通过移动两根螺杆便可清理工作台上方的胶水,使得工作台上的胶水清理方便。

技术领域

本实用新型涉及光刻设备技术领域,尤其是涉及一种光刻设备涂胶组件。

背景技术

光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

现有的光刻设备涂胶组件,物件涂胶过程中会有部分胶水残留在工作台上,很难对这些胶水进行收集,导致这些胶水浪费,工作台上的胶水不及时处理,后期这些胶水变干后容易粘在工作台上,容易使得工作台表面凹凸不平。

实用新型内容

本实用新型提供了一种光刻设备涂胶组件,有利于物件表面涂胶均匀,使得物件涂胶效果佳,可对胶水进行收集,避免胶水浪费,可通过移动两根螺杆便可清理工作台上方的胶水,使得工作台上的胶水清理方便,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种光刻设备涂胶组件,包括工作框;

所述工作框左右两侧均开有与其相通的圆孔,所述工作框内固定有工作台,所述工作台上表面左右方均固定有立板,所述立板表面均开有左右贯通的孔洞,所述孔洞内均插入有螺杆,所述螺杆内外两端均穿出孔洞,且所述螺杆内端均固定有夹板,所述夹板底部均安装有两块呈左右分布的刮板,所述刮板底部与工作台上表面相接触,所述螺杆外端穿出圆孔;

所述工作台表面开有若干个上下贯通的通孔,若干个所述通孔均位于两块所述立板之间,所述工作框内壁底部放置有塑料盒,所述塑料盒位于工作台内侧下方,且所述塑料盒顶部为开口端,所述工作台底部固定有两块呈左右对称分布的导流板,若干个所述通孔位于两块所述导流板之间,两块所述导流板下端延伸至塑料盒上方。

优选的,所述螺杆外部均螺纹连接有螺帽,所述螺帽位于立板外侧并与其相接触。

优选的,所述工作框内壁前后两侧均固定有滑条,且所述工作框内设有位于工作台上方的移动板,所述移动板前后两侧均开有滑槽,两条所述滑条分别与两个所述滑槽滑动连接,且所述移动板底部安装有三个呈均匀分布的涂胶轮。

优选的,所述移动板上方固定有胶水箱,所述胶水箱底部固定有两根与其相通的出胶管,所述出胶管下端均贯穿过移动板底部,两根所述出胶管与三个所述涂胶轮交错分布。

优选的,所述出胶管表面均安装有电磁阀,所述工作框顶部左方安装有PLC控制器,所述PLC控制器与两个所述电磁阀电性连接。

优选的,所述工作框内壁后侧安装有位于胶水箱后方的电动导轨,所述胶水箱后侧固定有滑块,所述滑块与电动导轨滑动连接。

优选的,所述工作框前面铰接有门板,所述门板表面上方安装有透明窗。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

该种光刻设备涂胶组件,通过两个滑槽和两条滑条配合使用,有利于移动板在工作框内平稳移动,移动板移动时会带动其底部的涂胶轮在物件上滚动,涂胶轮可将物件上的胶水抹开,对物件进行涂胶工作,通过电动导轨和滑块共同使用下,可使得胶水箱和移动板反复来回移动,从而可使得涂胶轮在物件上来回滚动,有利于物件表面涂胶均匀,使得物件涂胶效果佳;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海欧勋机电工程有限公司,未经上海欧勋机电工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120466534.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top