[实用新型]一种光刻设备涂胶组件有效
申请号: | 202120466534.9 | 申请日: | 2021-03-03 |
公开(公告)号: | CN215088463U | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 刘健 | 申请(专利权)人: | 上海欧勋机电工程有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10;B05C11/02;B05C13/02 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 刘颖 |
地址: | 202150 上海市崇明区长兴镇潘园公*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 设备 涂胶 组件 | ||
本实用新型提供了一种光刻设备涂胶组件,本实用新型涉及光刻设备技术领域,光刻设备涂胶组件,包括工作框,工作框左右两侧均开有与其相通的圆孔,工作框内固定有工作台,工作台上表面左右方均固定有立板,立板表面均开有左右贯通的孔洞,孔洞内均插入有螺杆,螺杆内外两端均穿出孔洞,且螺杆内端均固定有夹板,夹板底部均安装有两块呈左右分布的刮板,刮板底部与工作台上表面相接触,螺杆外端穿出圆孔;工作台表面开有若干个上下贯通的通孔;本实用新型的有益效果在于:有利于物件表面涂胶均匀,使得物件涂胶效果佳,可对胶水进行收集,避免胶水浪费,可通过移动两根螺杆便可清理工作台上方的胶水,使得工作台上的胶水清理方便。
技术领域
本实用新型涉及光刻设备技术领域,尤其是涉及一种光刻设备涂胶组件。
背景技术
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
现有的光刻设备涂胶组件,物件涂胶过程中会有部分胶水残留在工作台上,很难对这些胶水进行收集,导致这些胶水浪费,工作台上的胶水不及时处理,后期这些胶水变干后容易粘在工作台上,容易使得工作台表面凹凸不平。
实用新型内容
本实用新型提供了一种光刻设备涂胶组件,有利于物件表面涂胶均匀,使得物件涂胶效果佳,可对胶水进行收集,避免胶水浪费,可通过移动两根螺杆便可清理工作台上方的胶水,使得工作台上的胶水清理方便,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种光刻设备涂胶组件,包括工作框;
所述工作框左右两侧均开有与其相通的圆孔,所述工作框内固定有工作台,所述工作台上表面左右方均固定有立板,所述立板表面均开有左右贯通的孔洞,所述孔洞内均插入有螺杆,所述螺杆内外两端均穿出孔洞,且所述螺杆内端均固定有夹板,所述夹板底部均安装有两块呈左右分布的刮板,所述刮板底部与工作台上表面相接触,所述螺杆外端穿出圆孔;
所述工作台表面开有若干个上下贯通的通孔,若干个所述通孔均位于两块所述立板之间,所述工作框内壁底部放置有塑料盒,所述塑料盒位于工作台内侧下方,且所述塑料盒顶部为开口端,所述工作台底部固定有两块呈左右对称分布的导流板,若干个所述通孔位于两块所述导流板之间,两块所述导流板下端延伸至塑料盒上方。
优选的,所述螺杆外部均螺纹连接有螺帽,所述螺帽位于立板外侧并与其相接触。
优选的,所述工作框内壁前后两侧均固定有滑条,且所述工作框内设有位于工作台上方的移动板,所述移动板前后两侧均开有滑槽,两条所述滑条分别与两个所述滑槽滑动连接,且所述移动板底部安装有三个呈均匀分布的涂胶轮。
优选的,所述移动板上方固定有胶水箱,所述胶水箱底部固定有两根与其相通的出胶管,所述出胶管下端均贯穿过移动板底部,两根所述出胶管与三个所述涂胶轮交错分布。
优选的,所述出胶管表面均安装有电磁阀,所述工作框顶部左方安装有PLC控制器,所述PLC控制器与两个所述电磁阀电性连接。
优选的,所述工作框内壁后侧安装有位于胶水箱后方的电动导轨,所述胶水箱后侧固定有滑块,所述滑块与电动导轨滑动连接。
优选的,所述工作框前面铰接有门板,所述门板表面上方安装有透明窗。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
该种光刻设备涂胶组件,通过两个滑槽和两条滑条配合使用,有利于移动板在工作框内平稳移动,移动板移动时会带动其底部的涂胶轮在物件上滚动,涂胶轮可将物件上的胶水抹开,对物件进行涂胶工作,通过电动导轨和滑块共同使用下,可使得胶水箱和移动板反复来回移动,从而可使得涂胶轮在物件上来回滚动,有利于物件表面涂胶均匀,使得物件涂胶效果佳;
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