[实用新型]一种溅镀沉积设备的晶圆夹具

权利要求书

1.一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，在溅镀沉积工艺过程中用于承托一晶圆，所述晶圆夹具呈一圆环形，所述晶圆夹具的内圈向环形中间处延伸有延伸托座，所述延伸托座用于放置上述晶圆，其特征在于：所述晶圆夹具上表面靠近延伸托座处为一沟槽区，该沟槽区布满沟槽。

2.如权利要求1所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述沟槽区为从靠近延伸托座的内圈开始，向着晶圆夹具外圈方向径向延伸1cm~3cm的区域范围。

3.如权利要求1所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述沟槽区的沟槽成交叉状的设计，沟槽深度1mm~2mm，沟槽侧壁倾斜角30°~60°，各沟槽的直角处以喷砂处理成圆弧角。

4.如权利要求1所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述沟槽区的沟槽成嵌套的环状设计，沟槽深度1mm~2mm，沟槽侧壁倾斜角30°~60°，各沟槽的直角处以喷砂处理成圆弧角。

5.如权利要求4所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述沟槽区沿径向设有多条横隔沟槽，各横隔沟槽连通相邻的环状的沟槽，各横隔沟槽成间距15°~30°的环状分布。

6.如权利要求1-5任一一项所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述晶圆夹具表面布满一层氮化钽屏敝膜。

7.如权利要求6所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述氮化钽屏敝膜膜厚20μm~150μm。

8.如权利要求6所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述沟槽区的氮化钽屏敝膜表面再熔喷一层铝膜。

9.如权利要求8所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述铝膜膜厚20μm~250μm。

10.如权利要求1所述的一种溅镀沉积设备的晶圆夹具，其特征在于：所述晶圆夹具的上部外径边做一倒角处理，角度为105°~135°。