[实用新型]一种等离子蚀刻设备

权利要求书

1.一种等离子蚀刻设备，其特征在于，包括：

基座(100)；

蚀刻腔(101)，设置在所述基座(100)上，用于容置电路板，并且所述蚀刻腔(101)的一端敞开；

门板(102)，设置在所述蚀刻腔(101)上敞开的一端，所述门板(102)的一侧或两侧设置有限位杆(103)；

支架(104)，设置在所述基座(100)上，设置有与所述限位杆(103)相配合的限位孔(105)；

其中，所述限位孔(105)为腰孔且沿竖向设置，所述限位孔(105)的下端朝向靠近所述蚀刻腔(101)的方向倾斜延伸，所述门板(102)连接有驱动机构(106)，所述驱动机构(106)用于驱使所述门板(102)沿所述限位孔(105)的轴线方向移动以压紧或远离所述蚀刻腔(101)。

2.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述限位孔(105)倾斜延伸的下端呈弧形过渡。

3.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述支架(104)有两个并且分设在所述门板(102)的两侧，两个所述支架(104)之间通过固定板(107)连接，所述驱动机构(106)沿竖向朝下安装在所述固定板(107)上，所述驱动机构(106)的输出端与所述门板(102)活动连接。

4.根据权利要求3所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述门板(102)上远离所述蚀刻腔(101)的一端设置有朝外延伸的牵引块(108)，所述驱动机构(106)的输出端设置有轴承安装块(109)，所述轴承安装块(109)上设置有至少两个活动轴承(110)，两个所述活动轴承(110)分设在所述牵引块(108)的上下两端。

5.根据权利要求4所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述牵引块(108)水平设置，所述牵引块(108)可沿水平方向朝向靠近或远离所述蚀刻腔(101)移动。

6.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，还包括沿竖向设置的导轨(111)以及设置在所述导轨(111)上的滑块(112)，所述滑块(112)上设置有具有通孔(116)的辅助升降块(113)，所述门板(102)上具有穿过所述通孔(116)设置的杆件(114)。

7.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻腔(101)上敞开的一端开设有与所述门板(102)相配合的密封槽(115)。

8.根据权利要求7所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述门板(102)上相对靠近所述蚀刻腔(101)的一端和/或所述密封槽(115)上设置有密封垫片。