[实用新型]多阶曝光装置有效
| 申请号： | 202120501277.8 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN214375821U | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 刘大有;简志桦;赖建华;陈世勋 | 申请（专利权）人： | 刘大有;赖建华;简志桦;陈世勋 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 朱丽华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种多阶曝光装置，其特征在于，其包括有：
一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台；
一设于该工作平台上方的DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜；
一与该DMD曝光机电性连接的控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制该DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形。
2.根据权利要求1所述的多阶曝光装置，其特征在于，该曝光参数包括有曝光剂量的资讯。
3.根据权利要求1所述的多阶曝光装置，其特征在于，该曝光参数包括有曝光焦距的资讯。
4.根据权利要求1所述的多阶曝光装置，其特征在于，该工作平台设有一轨道，该载台可移动地设于该轨道上。
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