[实用新型]多阶曝光装置

说明书

一种多阶曝光装置，包括有一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台。工作平台的上方设有一DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜，此DMD曝光机电性连接一控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形，据此在晶圆上形成多个曝光层次。

技术领域

本实用新型与黄光微影制程有关，尤指一种可以多阶段进行的曝光装置。

背景技术

习知使用光罩的曝光机要做出多个曝光层次的图案，通常是利用多灰阶光罩，其分为gray-tone mask和half-tone mask两种。gray-tone mask是在光罩上制作曝光机解析度以下的微缝，half-tone mask则利用半透过的膜(semitransparent film)，以遮住部分光源，进而产生曝光部分、半曝光部分及未曝光部分等三个层次，在显影后形成不同厚度的光阻层。然而光罩一经制作完成，其结构即告固定而不能再变化，如欲进行其他专案工作，则必须制作另一套光罩，而有成本较高的缺点。

有鉴于此，如何改进上述问题即为本实用新型所欲解决的首要课题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种多阶曝光装置，其通过多个曝光参数控制DMD曝光机对同一个晶圆产生不同的曝光图形，以达成多个曝光层次，据此降低成本。

为达前述的目的，本实用新型提供一种多阶曝光装置，其包括有：

一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台；

一设于该工作平台上方的DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜；

一与该DMD曝光机电性连接的控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制该DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形。

较佳地，该曝光参数包括有曝光剂量或曝光焦距的资讯。

较佳地，该工作平台设有一轨道，该载台可移动地设于该轨道上。

本实用新型的优点在于：

本实用新型提供的多阶曝光装置，其通过多个曝光参数控制DMD曝光机对同一个晶圆产生不同的曝光图形，以达成多个曝光层次，据此降低成本。

本实用新型的上述目的与优点，不难从以下所选用实施例的详细说明与附图中获得深入了解。

附图说明

图1为本实用新型的立体示意图；

图2A至图2F为本实用新型的使用状态示意图。

具体实施方式

请参阅图1，所示为本实用新型提供的多阶曝光装置，其包括有一工作平台1及一DMD曝光机2(Digital Micromirror Device)。该工作平台1上设有一轨道11，此轨道11上设有一可移动的载台12，该载台12用以搭载晶圆3，据此晶圆3可被载运而在工作平台1上移动。此外，该工作平台1上设有一龙门架13，该DMD曝光机2设于该龙门架13上。

该DMD曝光机2具有复数个构成阵列的微反射镜，并电性连接一控制单元(图中未示)，在该控制单元上设定曝光参数之后，即可控制该DMD曝光机2中各微反射镜的作动，使光线投射在晶圆3上，进而在晶圆3上成形曝光图形。当在该控制单元上设定不同的曝光参数，可在晶圆3上成形不同的曝光图形。于本实施例中，上述的曝光参数包括有曝光剂量及曝光焦距的资讯。

于本实施例中，该控制单元可接受复数个曝光参数的设定，借此先后执行不同的曝光参数，而在同一个晶圆3上成形不同的曝光图形，这些不同曝光图形在整体上可构成不同的曝光层次。