[实用新型]一种介质波导滤波器及容性耦合结构有效
申请号: | 202120509345.5 | 申请日: | 2021-03-10 |
公开(公告)号: | CN214797660U | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 何建嵩;陈晓敏;刘子峰;戴立国 | 申请(专利权)人: | 苏州瑞玛精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H01P1/20 | 分类号: | H01P1/20;H01P1/207 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 向亚兰 |
地址: | 215151 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 介质波导 滤波器 耦合 结构 | ||
1.一种介质波导滤波器,所述介质波导滤波器包括两个介质谐振器与容性耦合结构,两个所述介质谐振器通过所述容性耦合结构耦合连接,其特征在于,所述容性耦合结构包括沿上下方向依次设置的容性耦合通孔以及与所述容性耦合通孔连通且具有空腔的容性耦合腔体,所述容性耦合腔体的横截面积大于所述容性耦合通孔的横截面积。
2.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔沿上下方向延伸,所述容性耦合腔体沿水平方向延伸。
3.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔与所述容性耦合腔体的上部的中部连通。
4.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述介质波导滤波器包括两个调试孔和介质波导滤波器本体,两个所述介质谐振器由两个所述调试孔分别与介质波导滤波器本体构成,所述容性耦合结构位于两个所述调试孔之间,所述调试孔的外表面、所述介质波导滤波器本体的外表面分别设置有第一导电层。
5.根据权利要求4所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合结构在竖直方向上的深度小于等于1.5倍的所述调试孔在竖直方向上的深度。
6.根据权利要求4所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔、所述容性耦合腔体的外表面分别设置有第二导电层,所述第一导电层与所述第二导电层相连接。
7.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔、所述容性耦合腔体一体成型构成所述容性耦合结构。
8.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔的横截面、所述容性耦合腔体的横截面分别为圆形、椭圆形或方形。
9.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合腔体的横截面积大于等于1.5倍的所述容性耦合通孔的横截面积。
10.一种应用在介质波导滤波器上以实现容性耦合的容性耦合结构,该介质波导滤波器包括两个介质谐振器和所述容性耦合结构,两个所述介质谐振器通过所述容性耦合结构耦合连接,其特征在于,所述容性耦合结构包括沿上下方向依次设置的容性耦合通孔以及与所述容性耦合通孔连通且具有空腔的容性耦合腔体,所述容性耦合腔体的横截面积大于所述容性耦合通孔的横截面积。
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