[实用新型]一种薄膜基材处理系统

权利要求书

1.一种薄膜基材处理系统，其特征在于，包括用于提供薄膜基材的放卷模组、用于对所述薄膜基材进行加热处理的烘箱模组、用于提供强氧化气体的强氧化气体发生器及用于收卷处理后的所述薄膜基材的收卷模组，所述放卷模组设置在所述烘箱模组的基材进料侧，所述收卷模组设置在所述烘箱模组的基材出料侧，所述强氧化气体发生器的出气口与所述烘箱模组的加热腔体连通，所述烘箱模组的基材进料口和基材出料口均设置有抽风装置。

2.根据权利要求1所述的薄膜基材处理系统，其特征在于，还包括尾气处理模组，所述尾气处理模组的进风口与所述抽风装置的出风口连通，所述尾气处理模组的出风口与厂房排风管道连通。

3.根据权利要求1所述的薄膜基材处理系统，其特征在于，所述烘箱模组上设置有风道模组，所述风道模组与所述加热腔体连通。

4.根据权利要求1所述的薄膜基材处理系统，其特征在于，所述加热腔体内设置有多个热辊，每一个所述热辊分别与油温机模组连接，所述薄膜基材从所述烘箱模组的基材进料口进入依次经过每一个热辊后，从所述烘箱模组的基材出料口出料。

5.根据权利要求4所述的薄膜基材处理系统，其特征在于，所述烘箱模组的基材进料口和基材出料口分别设置有一组第一过渡辊，多个所述热辊之间设置有若干第二过渡辊，在所述烘箱模组的基材出料口的第一过渡辊上方设置有一压胶辊，所述压胶辊通过一组胶辊摆臂设置在所述加热腔体内，所述胶辊摆臂通过一伸缩气缸驱动。

6.根据权利要求1所述的薄膜基材处理系统，其特征在于，所述放卷模组设置有放卷纠偏组件、放卷摆辊、放卷压带平台组件，所述薄膜基材依次经过所述放卷纠偏组件、所述放卷摆辊、所述放卷压带平台组件进入到所述烘箱模组；

所述收卷模组设置有收卷纠偏组件、收卷摆辊、收卷压带平台组件，处理后的所述薄膜基材依次通过所述收卷纠偏组件、所述收卷摆辊、所述收卷压带平台组件收卷于基材卷轴中。

7.根据权利要求6所述的薄膜基材处理系统，其特征在于，所述放卷模组包括放卷底座、放卷移动底板以及放卷侧板，所述放卷侧板设置在所述放卷移动底板上，所述放卷移动底板通过多个放卷纠偏导轨安装在所述放卷底座上，所述放卷底座与所述放卷移动底板之间设置有第一纠偏执行器，所述第一纠偏执行器一端通过第一纠偏固定座与所述放卷底座连接，所述第一纠偏执行器另一端通过第一纠偏推座与所述放卷移动底板连接；

所述放卷侧板的一侧设置有换卷气涨轴，所述薄膜基材通过安全夹头安装在所述换卷气涨轴上，所述放卷侧板的另一侧设置有放卷固定轴，所述换卷气涨轴通过第一同步带组件与放卷减速机组连接，所述放卷减速机组与放卷电机连接，所述放卷减速机组和所述放卷电机固定在所述放卷侧板上，所述第一同步带组件上设置有第一张紧轮；

所述换卷气涨轴一侧设置有放卷调节辊，所述放卷调节辊两端通过第一竖直调节组件固定在所述放卷侧板上，所述放卷调节辊一侧依次设置有第一放卷过渡辊以及放卷压带平台组件，所述放卷压带平台组件一侧设置有放卷张力传感器辊，所述放卷张力传感器辊下侧设置有第二放卷过渡辊，所述第一放卷过渡辊下侧设置有放卷摆辊驱动轴，所述放卷摆辊驱动轴两端通过放卷摆辊支臂与一放卷摆辊连接，所述放卷摆辊驱动轴一端通过第二同步带组件与摆动驱动机组连接，所述摆动驱动机组安装在所述放卷侧板上，所述第二同步带组件上设置有第二张紧轮，所述放卷摆辊驱动轴的端部安装有第一扇形圆柱齿轮，所述第一扇形圆柱齿轮与第一电位器连接，所述第一电位器通过第一电位器安装座固定在所述放卷侧板上；所述第二放卷过渡辊下侧设置有第三放卷过渡辊，所述第二放卷过渡辊一侧依次设置有放卷纠偏组件以及放卷出料辊，所述放卷纠偏组件安装在所述放卷侧板上。