[实用新型]一种用于蒸镀的旋转式线性蒸发源结构

说明书

本实用新型公开了一种用于蒸镀的旋转式线性蒸发源结构，具有：基板；坩埚，能够放置在基板上，坩埚内能够放置物料；蒸发源，其为长条形，蒸发源内设有加热丝；蒸发源至少设有两条；旋转轴，第一端与蒸发源连接；电机，其转轴与旋转轴的第二端连接，提高镀膜厚度均一性和混合均一性。

技术领域

本实用新型属于micro-OLED显示技术领域，尤其涉及一种用于蒸镀的旋转式线性蒸发源结构。

背景技术

与传统的AMOLED显示技术相比，micro-OLED以单晶硅芯片为基底并借助于成熟的CMOS工艺使其像素尺寸更小、集成度更高，可制作成媲美大屏显示的近眼显示产品而受到广泛关注。基于其技术优势和广阔的市场，在军事以及消费电子领域，硅基OLED微显示广泛用于近眼显示。

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：现有的高ppi硅基OLED产品多采用common mask蒸镀OLED，器件结构则为WOLED(白光OLED)+Colorfilter(彩色滤光片)技术，该技术虽然能够避开使用FMM mask，但由于白光本身的器件效率较低，并且增加color filter，会使产品的透光率会再损失约50％，所以产品想要达到高亮度，就会要求芯片输出更高的电压，这样对产品的功耗，发热以及OLED寿命都是不利的。

Real RGB技术(真实的RGB发光)在AMOLED行业是比较成熟的技术，单色的RGB的效率和寿命都已达到较高的水平，在micro OLED产品由于其非常高的PPI要求，对于mask和蒸发源的shadow均有较高的要求。现有的点蒸发源和线蒸发源结构的shadow值均不能满足高ppi产品直接蒸镀RGB要求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种提高镀膜厚度均一性和混合均一性的用于蒸镀的旋转式线性蒸发源结构。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种用于蒸镀的旋转式线性蒸发源结构，具有：

基板；

蒸发源，其为长条形，所述蒸发源内设有加热丝；所述蒸发源至少设有两条；

坩埚，能够放置在所述蒸发源上，所述坩埚内能够放置物料；

旋转轴，第一端与所述蒸发源连接；

电机，其转轴与所述旋转轴的第二端连接。

所述旋转轴为三层中空结构，包括依次套装的第一轴、第二轴和第三轴。

所述蒸发源的加热丝的材质为钽；所述坩埚为钛合金材质坩埚。

所述蒸发源的长度大于基板的直径20mm。

所述蒸发源的数量不大于四个。

所述坩埚的出口为网格状。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果，提高镀膜厚度均一性和混合均一性。

附图说明

图1为本实用新型实施例中提供的用于蒸镀的旋转式线性蒸发源结构的结构示意图；

图2为图1的镀旋转式线性蒸发源结构的蒸发源的结构示意图；

图3为图1的镀旋转式线性蒸发源结构的旋转轴的结构示意图；

图4为图1的镀旋转式线性蒸发源结构的结构示意图；

上述图中的标记均为：1、蒸发源，2、基板，3、旋转轴，31、第一轴，32、第二轴，33、第三轴，4、电机，5、坩埚，51、出口。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。