[实用新型]一种用于掩膜板干燥的多功能装置有效
申请号: | 202120597504.1 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN214278626U | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 罗雪春;万其凯;李承禧;范兴文 | 申请(专利权)人: | 成都拓维高科光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 | 代理人: | 谭新民 |
地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 掩膜板 干燥 多功能 装置 | ||
本实用新型公开了一种用于掩膜板干燥的多功能装置,包括干燥箱体,待干燥的掩膜板置于干燥箱体内部,所述干燥箱体侧面设有箱门,干燥箱体内设有用于干燥掩膜板的干燥机,干燥机与外部的控制柜连接,所述干燥箱体的上、下内壁及与箱门对立的侧壁上分别设有上板、下板和后板,各板上间隔设有多个用于放置掩膜板的条形凹槽,上板与下板之间的凹槽相对设置且凹槽沿着掩膜板进入箱体的方向,后板上的凹槽方向与上板的凹槽垂直,干燥箱体顶面和箱门对立面分别设有用于驱动上板、后板移动的电液压杆,电液压杆与控制柜连接。本实用新型提高了掩膜板干燥后产品良率,能干燥多种尺寸的掩膜板,生产效率高,成本低。
技术领域
本实用新型涉及显示设备技术领域,具体涉及一种用于掩膜板干燥的多功能装置。
背景技术
有机电致发光显示器件(OLED)作为显示器的一大分支,因OLED属于自发光,不像LCD需要借助背光,故厚度薄、可视度和亮度均高,其次是电压需求低且省电效率高,加上响应速度快、重量轻等特性,被视为21世纪最具有前途的产品之一。
OLED制程中,在掩膜板(或挡板)与其基板对位的过程中,如果挡板或掩膜板开孔处存在杂质或异物,制作出的OLED会出现像素不良、破坏OLED基板等而导致不良。
目前,针对OLED制程过程中使用的掩膜板通常采用化学方式清洗后,转运至干燥箱体中进行干燥。通常,在掩膜板中转过程中因掩膜板放置时错位导致设备报警影响生产效率;同时,因环境中及干燥箱体中存在较多微小颗粒,在掩膜板干燥过程中,这些颗粒物总会附着在掩膜板上,后续在进行OLED显示屏蒸镀工艺时,附着在掩膜板上的颗粒物会落在待蒸镀基板上,从而影响OLED显示屏的质量,影响产品良率。另外,现在的干燥箱体基本上只能应对一种尺寸的掩膜板的处理,其他尺寸的掩膜板的干燥要么单独设计干燥箱体要么通知外置夹具的方式进行,影响生产效率,增加成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于掩膜板干燥的多功能装置,用以解决掩膜板干燥后产品良率低,不能干燥多种尺寸的掩膜板导致生产效率低,成本高的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型采用了以下方案:
一种用于掩膜板干燥的多功能装置,包括干燥箱体,待干燥的掩膜板置于干燥箱体内部,所述干燥箱体侧面设有箱门,干燥箱体内设有用于干燥掩膜板的干燥机,干燥机与外部的控制柜连接,所述干燥箱体的上、下内壁及与箱门对立的侧壁上分别设有上板、下板和后板,各板上间隔设有多个用于放置掩膜板的条形凹槽,上板与下板之间的凹槽相对设置且凹槽沿着掩膜板进入箱体的方向,后板上的凹槽方向与上板的凹槽垂直,干燥箱体顶面和箱门对立面分别设有用于驱动上板、后板移动的电液压杆,电液压杆与控制柜连接。
优选的,所述凹槽的底面设有电磁感应凸块,电磁感应凸块与控制柜连接。
优选的,所述箱门两侧的内壁上设有环形导轨,环形导轨上安装有喷嘴,喷嘴通过管路与外部的压缩机连接,所述喷嘴通过安装座与干燥箱体外的驱动装置输出端连接,驱动装置与控制柜连接且用于驱动喷嘴沿环形导轨滑动。驱动装置驱动喷嘴在环形导轨上滑动,能大大提高喷嘴的吹扫范围。
优选的,所述喷嘴为空心锥形喷嘴。
优选的,所述喷嘴与掩膜板侧面的间距为100-350mm。该距离为吹扫的最佳距离范围,能有效的提高吹扫的质量。
优选的,所述喷嘴的角度在50°-140°内自由调节。使得喷嘴喷出的空气介质能大范围的对干燥箱体及掩膜板进行吹扫,最大限度的保证内部的阶洁净度。
优选的,所述箱门内侧的上方或边上设有门磁探测器,门磁探测器与控制柜连接。门磁探测器用于监测箱门的开启或者关闭,当干燥箱体的箱门打开时、掩膜板置于箱体内的过程中以及箱门关闭前,门磁探测器的磁性消失或者恢复,控制柜控制压缩机供给气体,由箱体左右两侧的喷嘴吹出,以避免在箱门开启时环境中或转运工具上的颗粒物附着于掩膜板上。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备