[实用新型]用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 202120660603.X | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN215470444U | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 刘慧超;高林 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 装置 | ||
1.一种用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述研磨垫包括具有第一硬度的第一研磨部和具有第二硬度的第二研磨部，所述第一硬度小于所述第二硬度，在所述研磨垫的研磨面上，所述第一研磨部的研磨面积和所述第二研磨部的研磨面积相同。
2.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述研磨垫的研磨面为圆形，所述第一研磨部和所述第二研磨部在所述研磨面上分别形成为半圆形。
3.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述第一研磨部包括多个第一子研磨部，所述第二研磨部包括多个第二子研磨部，在所述研磨垫的研磨面上，多个所述第一子研磨部和多个所述第二子研磨部沿所述研磨面外边缘的周向交替设置。
4.根据权利要求3所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，在所述研磨垫的研磨面上，所述第一子研磨部和所述第二子研磨部均形成为扇形。
5.根据权利要求3所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述第一子研磨部和所述第二子研磨部在所述研磨面的面积相同。
6.根据权利要求3所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述第一子研磨部为2-8个。
7.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述第一研磨部和所述第二研磨部分别为不同硬度的聚合物形成。
8.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述聚合物为聚氨酯。
9.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫，其特征在于，所述研磨面形成有沟槽，所述沟槽包括多个同心设置的圆环形槽。
10.一种化学机械研磨装置，其特征在于，包括机台和研磨垫，所述研磨垫设在所述机台上，所述研磨垫为根据权利要求1-9中任一项所述的用于化学机械研磨装置的研磨垫。
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