[实用新型]一种抛光液配比监测装置

说明书

本实用新型涉及一种抛光液配比监测装置，所属抛光液配比设备技术领域，包括原液桶，所述的原液桶一侧端设有纯水桶，所述的原液桶一侧端设有混合桶，所述的混合桶与纯水桶间、混合桶与原液桶间设有预配比桶，所述的预配比桶与纯水桶间、预配比桶与原液桶间均设有配比管，所述的配比管上设有流量传感器，所述的流量传感器侧端设有与配比管相法兰式管路连通的气动球阀，所述的预配比桶侧边设有与预配比桶相连通的PH检测器，所述的混合桶与预配比桶间设有抽液管。具有结构简单、稳定性好、实时配比监测和操作便捷的特点。提高多晶硅的平坦效率和抛光残留物的去除效果。

技术领域

本实用新型涉及抛光液配比设备技术领域，具体涉及一种抛光液配比监测装置。

背景技术

硅片表面抛光处理是半导体制成过程中很重要的工艺之一。抛光后的硅片表面平整如镜面，满足微纳器件制备的需要。

目前传统上的硅片抛光是一种使用抛光液进行粗、中、精抛的工艺过程，抛光液是由磨粒和化学液（列如酸）组成。硅片备放置在旋转台上，用抛光头压在旋转硅片表面进行抛光，俗称化学机械抛光。

而目前设备大多采用的都是日本进口的，抛光液配比装置配液比列不稳定是最大的缺失之一。

发明内容

本实用新型主要解决现有技术中存在稳定性差、缺乏配比监测和操作不便捷的不足，提供了一种抛光液配比监测装置，其具有结构简单、稳定性好、实时配比监测和操作便捷的特点。提高多晶硅的平坦效率和抛光残留物的去除效果。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：

一种抛光液配比监测装置，包括原液桶，所述的原液桶一侧端设有纯水桶，所述的原液桶一侧端设有混合桶，所述的混合桶与纯水桶间、混合桶与原液桶间设有预配比桶，所述的预配比桶与纯水桶间、预配比桶与原液桶间均设有配比管，所述的配比管上设有流量传感器，所述的流量传感器侧端设有与配比管相法兰式管路连通的气动球阀，所述的预配比桶侧边设有与预配比桶相连通的PH检测器，所述的混合桶与预配比桶间设有抽液管。

作为优选，所述的纯水桶上设有送水泵，所述的送水泵与纯水桶间设有送水管。所述的原液桶上设有送液泵，所述的送液泵与原液桶间设有送液管。所述的混合桶下部设有与混合桶相管路连通的出液泵。

作为优选，所述的送水泵与送水管间、送液泵与送液管间、出液泵侧边均设有阀门。

作为优选，所述的阀门与送水泵间、阀门与送液泵间均设有过渡法兰连接管。

作为优选，所述的抽液管上设有与抽液管相螺纹式套接的抽液泵。

本实用新型能够达到如下效果：

本实用新型提供了一种抛光液配比监测装置，与现有技术相比较，具有结构简单、稳定性好、实时配比监测和操作便捷的特点。提高多晶硅的平坦效率和抛光残留物的去除效果。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图中：送水泵1，纯水桶2，送水管3，送液管4，阀门5，过渡法兰连接管6，送液泵7，原液桶8，配比管9，气动球阀10，流量传感器11，混合桶12，出液泵13，抽液管14，抽液泵15，预配比桶16，PH检测器17。

具体实施方式

下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。