[实用新型]一种多功能真空镀膜设备

权利要求书

1.一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：包括真空镀膜室、下降取料，上升贴合密闭真空镀膜室的哑铃型升降底盘，所述真空镀膜室内设有蒸发镀膜系统、溅射镀膜系统，其通过抽真空系统提供低压的镀膜环境，所述哑铃型升降底盘上设有卷绕基材的卷绕系统，卷绕系统通过全自动控制卷绕张力系统实时控制其张力稳定，还包括与卷绕系统相连的静电辅助吸附镀膜系统。

2.根据权利要求1所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述真空镀膜室由蒸发镀膜室和溅射镀膜室以及连通前两室的联通管共同组成，联通管中设有挡板，将真空镀膜室分隔为两个独立的腔室。

3.根据权利要求1所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述卷绕系统包括收放卷辊、引导辊、镀膜辊，收放卷辊是收放料带的辊子，料带通过引导辊传送到镀膜辊进行镀膜作业，所述收放卷辊、引导辊、镀膜辊均置于哑铃型升降底盘上，料带固定在设于哑铃型升降底盘的各个辊子上。

4.根据权利要求3所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述蒸发镀膜系统与溅射镀膜系统的镀膜喷射均朝向其相应处的镀膜辊。

5.根据权利要求3所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述全自动控制卷绕张力系统由张力传感器、张力控制器组成，张力传感器测定料带的实际张力值，张力控制器与放卷辊、引导辊和镀膜辊均相连。

6.根据权利要求3所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述静电辅助吸附镀膜系统是由静电发生器和静电消除器构成，静电发生器与镀膜前引导辊相连，静电发生器将电荷通过引导辊传递给料带，静电消除器与镀膜后的引导辊相连。

7.根据权利要求1所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述蒸发镀膜系统为电子束蒸发镀膜系统、电阻蒸发镀膜系统、高频感应加热蒸发镀膜系统、电弧加热蒸发镀膜系统、激光束蒸发镀膜系统、反应蒸发镀膜系统其中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述溅射镀膜系统为直流二极溅射镀膜系统，直流三极溅射镀膜系统，直流四极溅射镀膜系统，射频溅射镀膜系统，对向靶溅射镀膜系统，离子束溅射镀膜系统，磁控溅射镀膜系统一种或多种。

9.根据权利要求1所述的一种多功能真空镀膜设备，其特征在于：所述抽真空系统是由机械泵和罗茨泵构成，机械泵和罗茨泵的输出端与真空镀膜室相连通，提供最低压力为50毫托。