[实用新型]一种多功能真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种多功能真空镀膜设备，包括真空镀膜室、下降取料，上升贴合密闭真空镀膜室的哑铃型升降底盘，所述真空镀膜室内设有蒸发镀膜系统、溅射镀膜系统，其通过抽真空系统提供低压的镀膜环境，所述哑铃型升降底盘上设有卷绕基材的卷绕系统，卷绕系统通过全自动控制卷绕张力系统实时控制其张力稳定，还包括与卷绕系统相连的静电辅助吸附镀膜系统。本实用新型一种多功能真空镀膜设备，能够同时进行蒸发镀膜系统和溅射射镀膜系统的卷对卷多功能真空镀膜机，并且该真空镀膜机具有全自动控制卷绕张力系统和静电辅助吸附镀膜系统，能够有效的避免径向力分布不均造成的薄膜褶皱问题和靶材浪费的问题，适合工业生产应用。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体为一种多功能真空镀膜设备。

背景技术

随着真空卷绕镀膜技术的发展，真空卷绕镀膜设备在不断满足工业生产的需求，并衍生了不同专业功能的真空卷绕镀膜设备。目前常见的真空卷绕镀膜设备的只采用一种类型镀膜方式，如果需要使用其他类型的镀膜方式生产需要将相应的部件拆下更换才能实现，过程十分麻烦。

如申请公布号为CN 110699658A公开了一种可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机。该机虽然可同时进行蒸发镀膜和等离子体放电镀膜两种镀膜模式，但是其设备在卷绕张力控制上存在很大的缺陷，容易造成径向力分布不均和薄膜褶皱。另外该机由于卷绕系统不在真空环境下，真空镀膜的真空环境很难维持。而且蒸发镀膜和等离子体放电镀膜过程中没有静电辅助吸附镀膜系统，容易造成靶材浪费。

为了解决上述问题，本案由此而生。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种多功能真空镀膜设备，解决了上述背景技术中提出的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种多功能真空镀膜设备，具有哑铃型升降底盘，卷绕基材的卷绕系统，联通管，蒸发镀膜系统，溅射镀膜系统，全自动控制卷绕张力系统，静电辅助吸附镀膜系统和抽真空系统。设备在镀膜前需要将哑铃型底盘降下来进行上料，将料带按顺序依次缠绕辊子上，哑铃型底盘升入镀膜腔室后能够很好与腔壁形成密闭空间，料带在真空镀膜室依次经过放卷辊，引导辊，镀膜辊，联通管，引导辊，镀膜辊，收卷辊。其中所有的辊子都受到全自动控制卷绕张力系统监控和控制；两室中镀膜前后的辊子受静电辅助吸附镀膜系统的影响，两室中镀膜前的辊子具有产生静电的能力，镀膜后的辊子具有静电消除的能力；在真空镀膜腔体内，蒸发镀膜和溅射镀膜喷射方向朝向镀膜辊的料带。两个真空镀膜室是通过联通管相连的，联通管有可以分隔两个真空镀膜室的挡板。抽真空系统是由机械泵和罗茨泵构成，为设备提供低压的镀膜环境。

优选的，所述卷绕系统可以含有收发卷辊，镀膜辊和引导辊。卷绕系统可以和真空镀膜室处于同一压力水平下，具有相同的真空度。卷绕系统中所有的棍子都受全自动控制卷绕张力系统监控与控制。两室中镀膜前后的辊子受静电辅助吸附镀膜系统的影响，两室中镀膜前的辊子具有产生静电的能力，镀膜后的辊子具有静电消除的能力。

优选的，所述静电辅助吸附镀膜系统包括静电发生装置和静电消除装置，与镀膜室中镀膜前后的引导辊相连，镀膜前的引导辊将电荷传递给料带，使料带有电荷，有助于料带吸附镀膜粒子。镀膜后的引导辊可以将料带的电荷消除，有助于料带去静电作用。静电辅助吸附镀膜系统只有在镀膜的时候才会开启，使镀膜粒子能够快速地吸附的在料带上成膜。

优选的，所述蒸发镀膜可以不限于电子束蒸发镀膜系统、电阻蒸发镀膜系统、高频感应加热蒸发镀膜系统、电弧加热蒸发镀膜系统、激光束蒸发镀膜系统、反应蒸发镀膜系统的其中的一种或者多种。

优选的，所述溅射镀膜系统不限于直流二极溅射镀膜系统，直流三极溅射镀膜系统，直流四极溅射镀膜系统，射频溅射镀膜系统，对向靶溅射镀膜系统，离子束溅射镀膜系统，磁控溅射镀膜系统一种或多种。