[实用新型]一种等离子体处理设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：

安装基座；

室体组件，安装于所述安装基座；

盖组件，与所述室体组件围设成工艺腔，所述盖组件与所述室体组件可拆卸连接；以及

进气管，所述进气管的一端与所述室体组件连接，所述进气管配置为经所述室体组件向所述工艺腔供气。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述进气管位于所述室体组件背离所述盖组件的一侧。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述安装基座与所述室体组件围设成容纳腔，所述进气管位于所述容纳腔内，所述进气管的另一端与所述安装基座连接，所述安装基座具有与所述进气管连通的进气端口。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述容纳腔具有避让区，所述进气管包括：

进气主管，连接在所述室体组件背离所述盖组件的一侧，所述进气主管沿所述室体组件和所述盖组件的排列方向延伸设置，所述进气主管配置为经所述室体组件向所述工艺腔供气，所述避让区至少部分地位于所述进气主管背离所述室体组件的一侧；以及

过渡管道，分别与所述安装基座和所述进气主管连接，所述进气端口与所述过渡管道连通，所述过渡管道配置为向所述进气主管供气。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述进气管一体成型。

6.根据权利要求1～5任一项所述的等离子体处理设备，其特征在于，室体组件包括：

室主体，安装于所述安装基座，所述室主体与所述盖组件围设成所述工艺腔，所述室主体与所述盖组件可拆卸连接，所述进气管穿设于所述室主体；以及

下电极部件，位于所述工艺腔内，所述下电极部件与所述进气管连接，所述下电极部件形成有气流通道，所述气流通道连通所述工艺腔与所述进气管，所述气流通道具有与所述工艺腔连通的多个出气端口。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述下电极部件包括：

下电极，位于所述工艺腔内；以及

第一石英环，位于所述工艺腔内，所述第一石英环环绕在所述下电极的周围，所述第一石英环与所述进气管连接，所述气流通道形成于所述第一石英环。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述气流通道包括：

第一气孔，与所述进气管连通；

环形通道，环绕在所述下电极的周围，所述环形通道与所述第一气孔连通；以及

多个第二气孔，每个所述第二气孔连通所述环形通道和所述工艺腔，多个所述第二气孔沿所述第一石英环的周向设置，每个所述第二气孔对应设置有所述出气端口。

9.根据权利要求8所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述第一石英环具有第一表面，所述第一表面位于所述第一石英环背离所述盖组件的一侧，所述第一气孔背离所述环形通道的一端的端口形成于所述第一表面。

10.根据权利要求7所述的等离子体处理设备，其特征在于，沿所述第一石英环的径向，所述第一石英环与所述室主体间隔预设距离；所述出气端口形成于所述第一石英环沿径向的外侧面。