[实用新型]半导体元件的刻蚀设备

权利要求书

1.一种半导体元件的刻蚀设备，其特征在于，包括：

盖体，具有进气口、多个出气口以及连通所述进气口和所述出气口的腔体；

支撑体，支撑于所述盖体；

石英管，连接于所述支撑体，所述石英管的上端与气源连通，下端延伸向所述进气口；和，

升降装置，设置于所述盖体的上方，所述升降装置能够使所述石英管向下降落或者向上升起，以使所述石英管的下端与所述进气口连通或者分离。

2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述升降装置包括：

箱体，设置于所述盖体的上方；

转动组件，支撑于所述箱体，所述转动组件具有输出轴；

传动件，支撑于所述箱体，所述传动件与所述输出轴连接；

平移件，沿上下方向具有第一端和第二端，所述第一端与所述支撑体连接，所述第二端与所述传动件连接，

其中，所述传动件能够将所述转动组件的转动运动转化为所述平移件沿上下方向的平移运动。

3.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述箱体和所述平移件中的一者具有导向槽，另一者具有凸台，所述凸台与所述导向槽相互匹配；和/或，

所述升降装置还包括锁止件，所述锁止件连接于所述箱体，用于锁止或者解锁所述输出轴。

4.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述传动件包括凸轮，所述凸轮与所述输出轴连接，所述凸轮具有转动中心和平行于所述转动中心的外缘面，所述平移件与所述外缘面抵接。

5.根据权利要求4所述的刻蚀设备，其特征在于，所述转动组件包括：

蜗杆，支撑于所述箱体；和，

蜗轮，与所述蜗杆啮合，所述蜗轮与所述凸轮同轴设置。

6.根据权利要求5所述的刻蚀设备，其特征在于，所述转动组件还包括：

摇臂，与所述蜗杆平行设置，所述摇臂的至少部分设置在所述箱体的外部；

连接件，连接所述摇臂和所述蜗杆。

7.根据权利要求1～6任意一项所述的刻蚀设备，其特征在于，所述腔体包括气室和连通所述气室的多个气道，所述气室与所述进气口连通，所述气道与对应的所述出气口连通，所述气道的数量少于所述出气口的数量。

8.根据权利要求7所述的刻蚀设备，其特征在于，多个所述气道在所述盖体垂直于气体流动方向的平面内阵列分布；和/或，

多个所述出气口在所述盖体垂直于气体流动方向的平面内阵列分布。

9.根据权利要求1～6任意一项所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀设备还包括密封件，所述密封件设置在所述石英管的下端和所述盖体之间。

10.根据权利要求1～6任意一项所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀设备还包括连接于所述支撑体的防护件，所述防护件套设在所述石英管的外部。