[实用新型]一种掩膜板有效
| 申请号： | 202120737590.1 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN215050635U | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王浩;王金彬;朱凯;祝晓钊;冯敏强 | 申请（专利权）人： | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 吴竹慧 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 | ||
【权利要求书】：
1.一种掩膜板，包括基材，所述基材包括全蚀刻开口区、半蚀刻减薄区，其特征在于，包括凸设于所述半蚀刻减薄区一侧的加强柱，及凸设于所述半蚀刻减薄区另一侧的支撑柱，所述支撑柱用于贴合支撑待蒸镀基板。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑柱沿垂直于所述基材的方向形成第一投影，所述加强柱沿垂直于所述基材的方向形成第二投影，所述第一投影完全落在所述第二投影中。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑柱呈点状分布，多个所述支撑柱均布于所述半蚀刻减薄区。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑柱为锥形或球缺形。
5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述加强柱为条状，相邻全蚀刻开口区之间均设置有加强柱。
6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基材为晶硅片。
7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑柱的粗糙度小于10nm。
8.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述加强柱、所述支撑柱及所述半蚀刻减薄区一体成型。
9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述加强柱和所述支撑柱为所述基材的不蚀刻区。
10.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑柱粘接在所述半蚀刻减薄区。
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