[实用新型]一种镀镍装置有效

专利信息
申请号: 202120747635.3 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN215103550U 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 蔡锦波;周晓明 申请(专利权)人: 马鞍山市槟城电子有限公司
主分类号: C23C18/36 分类号: C23C18/36
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 潘登
地址: 243000 安徽省马鞍山市经济*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 装置
【权利要求书】:

1.一种镀镍装置,其特征在于,所述的镀镍装置包括镀镍槽,所述镀镍槽内注入镀液;所述镀镍槽为双层结构,包括内壳和外壳,所述内壳与外壳之间形成空腔,所述内壳上遍布通孔,所述空腔内设置有加热模块;

所述镀镍槽外接循环管路,所述循环管路的入口端接入外壳底部并与空腔连通,所述循环管路的出口端伸入镀液内,所述循环管路上设置有过滤泵,镀镍槽内的镀液经空腔进入循环管路,由过滤泵过滤后回流;

所述内壳底部设置有曝气装置,所述的曝气装置外接氮气源,通过所述曝气装置向内壳中鼓入氮气。

2.根据权利要求1所述的镀镍装置,其特征在于,所述循环管路的出口端设置有镀液喷射装置,回流的镀液经镀液喷射装置喷出;

所述的镀液喷射装置包括至少一根水平设置的喷射主管,所述的喷射主管上并排竖直设置有至少一根喷射支管,所述的喷射支管上沿长度方向设置至少一个喷嘴组。

3.根据权利要求2所述的镀镍装置,其特征在于,所述的喷嘴组包括沿支管周向设置的至少两个喷嘴,相邻两个喷嘴组中包括的喷嘴交错设置。

4.根据权利要求2所述的镀镍装置,其特征在于,所述的喷射支管的直径沿管内镀液流向由上至下逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的镀镍装置,其特征在于,所述外壳的内侧面设置有保温层,所述的内壳中设置有搅拌装置。

6.根据权利要求1所述的镀镍装置,其特征在于,所述的镀镍装置还包括与所述的镀镍槽循环连接的镀液再生槽,镀镍槽中的废镀液进入镀液再生槽再生后返回镀镍槽循环使用。

7.根据权利要求6所述的镀镍装置,其特征在于,所述的镀液再生槽内设置有竖向隔板,所述竖向隔板将镀液再生槽分隔为底部连通的过滤室和沉淀室。

8.根据权利要求7所述的镀镍装置,其特征在于,所述的过滤室内填充有碳酸钙过滤床。

9.根据权利要求8所述的镀镍装置,其特征在于,所述的碳酸钙过滤床的厚度为0.5~1.5m,所述碳酸钙过滤床中采用的碳酸钙粒径为0.1~0.5mm。

10.根据权利要求7所述的镀镍装置,其特征在于,所述镀液再生槽的安装位置高于镀镍槽的安装位置,所述的过滤室与外壳排液口通过排液管路连接,所述的排液管路上设置有输送泵;所述的沉淀室的侧壁处开设溢流口,所述镀镍槽位于溢流口下方;镀镍槽内的废镀液经排液管路进入过滤室,经过滤后由过滤室底部进入沉淀室沉降,沉淀室内的上方清液作为再生镀液溢流返回镀镍槽。

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