[实用新型]输送系统及剔料机构

权利要求书

1.一种输送系统，其特征在于，包括：

转动件，所述转动件绕参考轴线可自转；

抓取件，所述抓取件设置于所述转动件，位于所述参考轴线的外周，用于抓取物件，并在所述物件受到超过预定阈值的外部作用力时，释放所抓取的所述物件；

剔料件，所述剔料件对应所述抓取件的移动路径设置，具有施力表面，所述施力表面沿所述抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离所述抓取件的所述移动路径，且当所述抓取件携带所述物件移动至对应所述剔料件位置处时，所述施力表面的前端位于所述物件朝向所述抓取件一侧，并能够避让所述抓取件，所述施力表面用于对所述物件施加超过所述预定阈值的所述外部作用力，以使得所述抓取件释放所述物件。

2.根据权利要求1所述的输送系统，其特征在于，

所述剔料件设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底面形成所述施力表面，所述第一凹槽的开口背离所述抓取件。

3.根据权利要求2所述的输送系统，其特征在于，

所述剔料件设置有第二凹槽，所述第二凹槽和所述第一凹槽的开口相反，且至少在所述施力表面前端与所述第一凹槽相通，以使得所述施力表面前端形成缺口，所述第二凹槽用于避让所述抓取件。

4.根据权利要求3所述的输送系统，其特征在于，

当所述抓取件移动至对应所述剔料件位置处时，所述抓取件与所述第二凹槽的底面的空间无法通过一个所述物件。

5.根据权利要求2所述的输送系统，其特征在于，包括：

限位件，所述限位件设置于所述第一凹槽中，其朝向所述施力表面一侧的表面、所述施力表面、所述第一凹槽的一对侧壁形成引导通道，以引导从所述抓取件上分离下来的所述物件移动。

6.根据权利要求5所述的输送系统，其特征在于，

所述限位件与所述剔料件可拆卸连接。

7.根据权利要求5所述的输送系统，其特征在于，

所述限位件朝向所述施力表面一侧的表面沿所述抓取件的所述移动方向延伸的同时逐渐远离所述抓取件的所述移动路径。

8.根据权利要求7所述的输送系统，其特征在于，

所述施力表面以及所述限位件朝向所述施力表面一侧的表面均为弧形面。

9.根据权利要求1至8任一所述的输送系统，其特征在于，包括：

收料容器；

料道，所述料道为中空管道，所述料道设置于所述剔料件的所述施力表面的末端与所述收料容器之间，以将从所述抓取件上分离下来的所述物件引导至所述收料容器中。

10.一种剔料机构，用于将物件从抓取件上分离下来，所述抓取件设置于转动件，所述转动件绕参考轴线可自转，所述抓取件位于所述参考轴线的外周，用于抓取物件，并在所述物件受到超过预定阈值的外部作用力时释放所抓取的所述物件，其特征在于，所述剔料机构包括：

剔料件，所述剔料件对应所述抓取件的移动路径设置，具有施力表面，所述施力表面沿所述抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离所述抓取件的移动路径，且当所述抓取件携带所述物件移动至对应所述剔料件位置处时，所述施力表面的前端位于所述物件朝向所述抓取件一侧，并能够避让所述抓取件，所述施力表面用于对所述物件施加超过所述预定阈值的所述外部作用力，以使得所述抓取件释放所述物件。