[实用新型]输送系统及剔料机构

说明书

本申请属于输送装置技术领域。本申请公开了一种输送系统和剔料机构。其中，输送系统包括抓取件、转动件和剔料件。剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，该施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。由此，能够将未成功输送出去的物件分离下来，避免其与待输送的后一个物件干涉。

技术领域

本申请属于输送装置技术领域，特别是涉及一种输送系统及剔料机构。

背景技术

输送系统在第一、第二位置往复移动或转动以输送物件时，若前一个物件在第一位置未成功输送出去，在第二位置处会与待输送的另一个物件干涉，造成异常。例如，锂电池在自动化生产线中，需要在装配工位将盖帽与电池壳体焊接为一体。输送系统包括转盘和真空吸盘。转盘携带真空吸盘在上料工位和装配工位往复转动，以将上料工位的盖帽逐个输送至装配工位。在一些情况下，盖帽在装配工位未完成焊接，便随真空吸盘再次转动至上料工位。真空吸盘上的盖帽会与上料工位处的盖帽干涉。

实用新型内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种输送系统及剔料机构，能够将未成功输送出去的物件分离下来，避免其与待输送的后一个物件干涉。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种输送系统，输送系统包括：转动件，转动件绕参考轴线可自转；抓取件，抓取件设置于转动件，位于参考轴线的外周，用于抓取物件，并在物件受到超过预定阈值的外部作用力时，释放所抓取的物件；剔料件，剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。

进一步地，剔料件设置有第一凹槽，第一凹槽的底面形成施力表面，第一凹槽的开口背离抓取件。

进一步地，剔料件设置有第二凹槽，第二凹槽和第一凹槽的开口相反，且至少在施力表面前端与第一凹槽相通，以使得施力表面前端形成缺口，第二凹槽用于避让抓取件。

进一步地，当抓取件移动至对应剔料件位置处时，抓取件与第二凹槽的底面的空间无法通过一个物件。

进一步地，输送系统包括：限位件，限位件设置于第一凹槽中，其朝向施力表面一侧的表面、施力表面、第一凹槽的一对侧壁形成引导通道，以引导从抓取件上分离下来的物件移动。

进一步地，限位件与剔料件可拆卸连接。

进一步地，限位件朝向施力表面一侧的表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径。

进一步地，施力表面以及限位件朝向施力表面一侧的表面均为弧形面。

进一步地，输送系统包括：收料容器；料道，料道为中空管道，料道设置于剔料件的施力表面的末端与收料容器之间，以将从抓取件上分离下来的物件引导至收料容器中。

为解决上述技术问题，本申请还提供一种剔料机构，用于将物件从抓取件上分离下来，抓取件设置于转动件，转动件绕参考轴线可自转，抓取件位于参考轴线的外周，用于抓取物件，并在物件受到超过预定阈值的外部作用力时释放所抓取的物件，剔料机构包括：剔料件，剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。