[实用新型]一种新型的扩散炉进炉舟架

说明书

本实用新型涉及一种新型的扩散炉进炉舟架，包括挡板、支脚、舟槽a、舟槽b，所述支脚中部左右两端各设有一个凹槽，所述支脚两端向下凸起高于中部，所述两支脚平行设置中间通过两个舟槽连接，所述两支脚顶部各设有一块挡板。本实用新型使扩散炉进炉舟架可以独立放置于扩散炉炉膛内，舟架两末端有比较高的挡板；这样，硅片在高温掺杂扩散时，炉膛内放置的东西变少了，减少了其他杂质源的存在，扩散炉的洁净度提高了，硅片的寿命也提高了，而且，硅片在扩散时，舟架下方减少了舟铲的阻挡，杂质气流在高温扩散的时候可以更多的从下方进入对硅片进行扩散，近似于弥漫性扩散，提高了器件的均匀性，改善了器件性能。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件生产器械领域，具体涉及一种新型的扩散炉进炉的舟架。

背景技术

扩散掺杂是一种器件生产过程中把单晶高温扩散掺入某种所需杂质形成所需的器件结构的方法。在此过程中，需把硅片放在硅舟上，硅舟又架在舟铲上，通过舟铲把硅舟上的硅片一同运入扩散炉进行高温掺杂扩散。在高温掺杂扩散的过程中，舟铲同硅片一同进入了扩散炉，带入了更多的其他杂质，而且还阻挡扩散炉中的杂质气流从下方对硅片进行均匀掺杂，影响了器件的寿命和均匀性。所以需对扩散炉进炉硅舟进行改进，才能提高器件的寿命和均匀性。

实用新型内容

为了提高器件生产过程中的寿命和均匀性，对现有硅舟进行了改进，本实用新型提供了一种新型的扩散炉进炉舟架。

本实用新型的技术解决方案是：一种新型的扩散炉进炉舟架，包括支脚、挡板、舟槽a，舟槽b，所述支脚中部左右两端各设有一个凹槽，所述支脚两端向下凸起高于中部，所述两支脚平行设置，中间通过舟槽a与舟槽b连接，所述舟槽a与舟槽b处于同一平面并且为镜面对称关系，所述两支脚顶部各设有一块挡板。

所述舟槽a与舟槽b顶部内侧外侧两端各设有一个倒角，所述舟槽a与舟槽b内侧倒角上设有锯齿状槽。

本实用新型与现有技术相比具有如下优点：本实用新型适用于高均匀性高寿命的器件掺杂。在器件掺杂过程中，进入扩散炉中的东西越少越好，而本实用新型上有可以放置硅片的舟槽a与舟槽b，可以独立放置于扩散炉炉膛内，无需舟铲的支撑；而以往的硅舟需要放在舟铲上运送进入扩散炉且扩散炉对硅片进行工艺掺杂时，放置硅片的硅舟需一直架在舟铲上进行工艺掺杂，硅舟不能独立放置在扩散炉炉膛内。且本实用新型的扩散炉进炉舟架两末端有比较高的挡板，替代了以往的挡片，可以防止两侧强大气流对硅片掺杂均匀性的影响，减少了高温掺杂过程中舟铲及挡片上的其他杂质源对硅片寿命的影响。其次，在进行工艺运行时，装载硅片的舟架不再架在舟铲上，杂质气流可以从四面八方近似均匀的对硅片掺杂扩散，类似弥漫性扩散，提高了器件的均匀性，改善了器件性能。

附图说明

图1是本实用新型工作过程中的侧面示意图。

图2是本实用新型的俯视图。

图3是图1的透视图。

图4是图3A处放大示意图。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清晰的理解，现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。

如图1-4所示，一种新型的扩散炉进炉舟架，包括支脚4、挡板1、舟槽a2，舟槽b3，舟铲5，所述支脚4中部左右两端各设有一个凹槽，所述支脚4两端向下凸起高于中部，所述两支脚4平行设置，中间通过舟槽a2与舟槽b3连接，所述舟槽a2与舟槽b3处于同一平面并且为镜面对称关系，所述舟槽a2与舟槽b3顶部内侧外侧两端各设有一个倒角，所述舟槽a2与舟槽b3内侧倒角上设有锯齿状槽，所述两支脚4顶部各设有一块挡板1，所述舟铲5形状与支脚4相匹配，舟铲5左右的两端设有凸起能嵌入支脚4的凹槽内。

所述舟铲5与支脚4采用分离式设计。